光刻機中國多久能造出來

❶ 我們何時能研發製造出自己的高端光刻機呢

不是只能停留在跟隨仿製光刻機的層面，而是我們連跟隨仿製可能都做不到；雖然這話聽起來有點掃興，但是這就是我國的真實現狀。要想生產出高端光刻機，需要很多領域的頂級供應商相互配合，下面我就簡單列舉下生產高端光刻機需要的三項技術，也好讓大家知道製造自己的光刻機到底有多難。

EUV光刻機在進行工作的時候每反射一次都會造成30%的能量損失，一束光源在多次反射後基本上所剩無幾，這就需要高精度的反射鏡頭保證每次反射都能准確完成。目前在ASML目前主要的EUV光刻機上都是使用的卡爾蔡司
SMT
全反射4倍光學變焦鏡頭組件，如果沒有和卡爾蔡司一直在光學領域保持的良好合作，EUV光刻機可能現在還只能停留在設想中。

ASML的一位高管曾經放放眼就算是中國拿到高端光刻機的圖紙，也照樣生產不出來高端光刻機，這還真不是一句大話。一台光刻機是世界上多個公司頂級技術的智慧結晶，再加上我國的光刻機起步晚基礎差，想要追趕起來確實太難了。

可能很多朋友想知道中國的光刻機在多少年後可以追上ASML現在的標准，如果國家不計成本的給予資金和技術的投入，最樂觀的估計也要十年之久。不過我們國家在進步的同時ASML也不會原地踏步，到時候還是要被它遠遠甩開的。

❷ 蔣尚義需要多長時間才能研製出光刻機

我認為就目前的科技水平，蔣尚義還是需要很久才會研製出光刻機的，至少需要五年的時間才可以成功。因為需要解決的東西還需要很多。

❸ 華為多久能造出光刻機

最近有傳言華為正在招聘“光刻工藝工程師”，因此不少網友紛紛猜測：華為這是打算自己做光刻機嗎？甚至還有人說華為能夠在2年內搞定5nm的光刻機，這就有些太誇張了，事實也並非如此。由於眾所周知的原因，華為在今年很“難過”。雖然華為通過自研拿出了極為先進的5G晶元麒麟990，但是由於不具備晶元製造能力，麒麟晶元只能交由台積電進行代工。

但是由於台積電受到了巨大的外界壓力，終於在近期聲明會在9月14日起停止為華為代工晶元。事實上台積電從今年5月份開始就不再接收華為下的新訂單了，截至目前台積電已經為華為生產了800萬塊最新的麒麟晶元。

所以我認為，華為接下來自己製造光刻機的可能性不高，因為這個難度太大了。但是華為會加強與國內專業晶元供應鏈的合作，比如與中芯國際、上海微電子合作，派駐研發人員一起來攻克光刻機的難關。相信在國內企業的共同努力下，未來一兩年內實現28nm甚至14nm光刻機完全自主還是有可能的。

而到了14nm這個級別，至少用在手機和通信設備上是沒有問題的，可以保證華為的主營業務存續，剩下的則仍然需要慢慢追趕。至少光刻機技術最多也就到1nm，這就像是龜兔賽跑，雖然對手已經跑出很遠了，但終點就在那裡，只要肯投入研發力量，總有一天可以抵達的。

❹ 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能，要多久

中國目前已經有了成熟的光刻機產品，只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。

目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一，這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作，從他們的產品中吸取經驗和教訓，進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢？國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作，我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截，那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大，短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路，那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看，我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上，想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事，在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁，說不定未來會創造奇跡呢？

❺ 中國何時能造出來自己的光刻機

現在世界上頂級的設備毋庸置疑就是ASML的5納米光刻機。這台機器如果一一拆分開來的話可以裝進大約40個集裝箱之中，超過100000萬個零件的總數量在機器領域絕對算得上是龐然大物。而且這10萬個零件之中，精密儀器、頂級光源、超穩定軸承和計量器一個都不少。它們分別來自全球各個國家，包括日本、德國和美國。而其中，美國為光刻機提供的基礎零件其實也比較多，正因如此他們才能如此硬氣的要求晶元代加工廠商禁止向華為輸出產品。

❻ 中國什麼時侯能製造出達到國外水平的光刻機

以現在的技術來看我國確實達不到國外的水平，但是我們中國有決心，有耐心，我相信用不著太長的時間就會達到國外的水平。

❼ 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。

❽ 光刻機為什麼中國做不出來

總結下來，主要有以下幾點：

1、技術上壁壘高。

ASML總裁Peter Wennink也在媒體上方言：高端的EUV光刻機永遠不可能（被中國）模仿。

「因為我們是系統集成商，我們將數百家公司的技術整合在一起，為客戶服務。這種機器有80000個零件，其中許多零件非常復雜。以蔡司公司為例，為我們生產鏡頭，各種反光鏡和其他光學部件，世界上沒有一家公司能模仿他們。此外，我們的機器完全裝有感測器，一旦檢測到有異常情況發生，Veldhoven總部就會響起警報。」

2、長周期投入。

光刻機是典型到極致的高風險、高投入的賽道，前期的投入很高收益很慢，有時候身體要貼錢投入。從ASML的研發投入基本達到15%以上，有時候全年負增長也是常態。

據一位在ASML工作的知乎作者@俗不可耐透露：「ASML的EUV光刻機才真正開始盈利」，而ASML在這項技術上投入的時間是27年。試問有多少企業可以做到。

3、更換供應商成本太高。

買到一台機器和用好機器是兩碼事。ASML極紫外（EUV）光刻機每台售價達到1.2億美元，重達180噸，零件超過10萬個，運輸時能裝滿40個集裝箱，安裝調試時間超過一年。除此之外，磨合與提高良率都需要時間堆砌，只要沒有大的技術變革，廠商們不可能輕易放棄ASML當其他廠商的小白鼠的。

台積電（占據全球晶圓代工的大半壁江山）、三星、英特爾、格羅方德包括國內的中芯國際都是ASML的客戶，其中三星、英特爾、格羅方德還是ASML的股東，三大巨頭轉投其他家的可能不大。

光刻機之所以重要，在於它是實現摩爾定律的基礎：

摩爾定律指出集成電路上能被集成的晶體管數目，將會以每18個月翻一番的速度穩定增長。可以把晶圓的整體構造想像成在微觀世界構建大樓，如果想讓整個建築有更多的小房間可以容下晶體管，這就要求房屋的整體框架要精細再精細。反映到光刻機上就意味著它投射到晶圓上的尺寸越小。

EUV光刻機代表了大廠在先進製程方面的領先性，目前只有荷蘭ASML一家能夠提供可供量產用的EUV光刻機。各大Foundry廠和IDM廠在7nm以下的最高端工藝上都會採用EUV光刻機，客戶以英特爾、台積電、三星、SK海力士為主。

ASML在2019年出售了26台極紫外線(EUV)光刻設備，大概一半供給了台積電。

❾ 為什麼光刻機不需要大學和研究機構操心中國突破需要幾年

近年來，隨著我國科技的高速發展，美國為了保住自己第一科技大國的地位，便開始對我國高新技術企業進行打壓，而且手段不斷在升級。而在美國所有的制裁手段中，晶元斷供成為了他打壓我國企業最常用、最有效的手段。

其實，我國不是沒有光刻機，只不過是沒有做成高端而已。但是，隨著國內光刻機市場的擴大，美國不斷對我們進行封鎖，國內企業已經開始在光刻機方面不斷投入大量資金，進行技術的研發和更新，尤其是國內已經發現了可用於EUV光刻機的光源，筆者堅信，兩三年之後，國產光刻機必定能取得重大突破。

❿ 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。