中國需要多久才能生產出光刻機

❶ 為什麼光刻機不需要大學和研究機構操心中國突破需要幾年

近年來，隨著我國科技的高速發展，美國為了保住自己第一科技大國的地位，便開始對我國高新技術企業進行打壓，而且手段不斷在升級。而在美國所有的制裁手段中，晶元斷供成為了他打壓我國企業最常用、最有效的手段。

其實，我國不是沒有光刻機，只不過是沒有做成高端而已。但是，隨著國內光刻機市場的擴大，美國不斷對我們進行封鎖，國內企業已經開始在光刻機方面不斷投入大量資金，進行技術的研發和更新，尤其是國內已經發現了可用於EUV光刻機的光源，筆者堅信，兩三年之後，國產光刻機必定能取得重大突破。

❷ 蔣尚義需要多長時間才能研製出光刻機

我認為就目前的科技水平，蔣尚義還是需要很久才會研製出光刻機的，至少需要五年的時間才可以成功。因為需要解決的東西還需要很多。

❸ 拜登限制出口逼急荷蘭，國產光刻機好消息頻出，自主發展五年成型

在人類邁入高 科技 時代之後，晶元這個小小的元件地位水漲船高，小到一部手機，大到一個機器人，都需要晶元的支持才能正常工作，晶元水平的強弱直接影響著 科技 產業的興衰。

這種元件雖然體積小，但內部結構復雜多變，其製作工藝、晶元設計都蘊含著極高的 科技 水準，沒有系統的學習過這一領域的專業知識，想要涉足幾乎不可能。除此之外想要製造出晶元，還有一個繞不過的難題，那就是光刻機。新來的朋友們記得點個關注，方便瀏覽往期視頻和文章，又可接收最新消息。

一、拜登限制荷蘭向中國出口光刻機

光刻機是製造晶元的核心裝備，它採用的技術類似於照片沖印，能夠把模板上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。雖然看起來光刻機的技術並不復雜，但因為性質特殊，對精度要求極高，其中所蘊含的 科技 水平之高，在世界范圍內也僅有數家公司能夠製造。

光刻機分為兩種，分別是DUV光刻機和EUV光刻機。其中DUV代表著深紫外線，而EUV代表著極深紫外線，雖然僅有一字之差，但EUV光刻機在精度方面幾乎碾壓DUV光刻機.而光刻機精度越高，能夠生產出的晶元納米尺寸也就更小，功能也就更加強大。目前來說，世界上小於5納米的晶元晶圓，只能通過EUV光刻機生產。

一台EUV光刻機，單單是組成零件便達到10萬多顆，其中極紫外線光源生產自美國，機械部分來源於工作一絲不苟的德國，核心軸承產自瑞典，所用到的光學設備主要由日本提供，生產所用的閥門來自法國，而核心技術則掌握在荷蘭的阿麥斯公司手中。

從中不難看出一台光刻機，集結了眾多國家的最頂尖 科技 .而它在價格方面也十分昂貴，通常在3,000萬美元至5億美元不等。並且，目前來說，世界上只有荷蘭的阿麥斯公司可以製造EUV光刻機。

不過雖然光刻機具有極高的技術含量，但其本質也僅僅是一件商品，並不能同時擁有價值與使用價值，作為商品,被用來交易便是他的宿命。早在2018年4月，我國的中芯國際便向該公司下單了一台EUV光刻機，這台光刻機最終的成交價格已經達到1.2億美元。但巧合的是，就在阿麥斯公司已經將這台光刻機組裝完畢，馬上就可以交貨的關鍵時期，工廠內卻突發火災，至今原因不明。

不過在2021年7月18日，美國總統拜登對外宣稱出於美國的國家安全考慮，要求荷蘭限制向中國出售光刻機。拋開其他方面不談，單單限制商品的流通這一點，便不符合人類 社會 發展的規律，屬於倒行逆施的行為。但是，在美國下達禁令之後，荷蘭迫於國際壓力，不得已之下，扣留了對中國的出口許可。

這樣的舉動，無疑會讓中國與荷蘭的外交關系陷入較為緊張的局面，但是，透過現象看本質，此件事情主要還是因為這段時間中國在多領域，尤其是武器領域發展迅速，使得美國擁有了危機感，不得已之下，他們只能通過極端手段遏制打壓中國 科技 產業，而荷蘭只是受了脅迫而已，這件事情不會對中國與荷蘭的關系產生較大影響。

早在特朗普當政時期，為了阻礙中國在高 科技 領域的進一步發展，便開始限制對中國的技術出口，我們所熟知的華為公司正是遇到了核心技術卡脖子的問題，才導致如今陷入無芯可用的尷尬局面。實際上以華為內部的研發團隊，完全能夠滿足晶元的設計要求，但是設計出晶元之後，華為公司卻沒有與之相匹配的能力將其製造出來，這一問題歸根結底，還是光刻機鬧得。

二、好消息頻出，國產光刻機核心問題有望解決

在拜登政府上台之後，一改特朗普執政時期的作風，在伊核問題、退群問題上，都和特朗普的執政方針完全不同，但令人沒有想到的是，對於中國 科技 方面，拜登卻選擇了支持特朗普的政策，持續對我國相關企業進行打壓。

在拜登入主白宮還不到一個月的時候，他便派出了國家安全顧問傑克沙利文前往荷蘭進行交涉，其目的就是為了限制阿麥斯和中國的合作。除了正常的外交談判之外，美國方面甚至對荷蘭進行威脅，聲稱如果美國不給阿邁斯提供製造光刻機的零件，整個阿麥斯公司的設備就無法運轉。除此之外，拜登甚至還想要控制比利時微電子研究中心，以此來阻止中國的發展，好在他的目的沒有達成，不然實在的局面必定會更加緊張。

但是對於美國的所作所為，阿麥斯的首席執行官溫寧克卻做出預言，他表示出口管制固然在短期內會限制中國的發展，但從長遠角度出發必定會起到反作用。

自強不息，一直是中華民族最寶貴的特質之一。在建國初期，我們一窮二白，面對西方的技術封鎖，中華民族在 探索 之中砥礪前行，在原子彈、核潛艇、衛星等方面，中國比西方世界慢了不知道多少年，但我們卻用自己的努力與汗水將這個是差距一點一點的縮短，甚至完成反超，這種力量與信念足以令世界人民震驚！如今我國在光刻機領域遭受的困境與當年如出一轍，先輩們能做到的事，今天的中國人同樣能夠做到。

從經濟學角度出發，市場決定生產，中國擁有14億人口，毫無疑問中國是全球最大的晶元應用市場，中國每年進口晶元的花費高達數千億元，晶元行業的蓬勃發展，也代表著中國的光刻機市場，同樣擁有廣大的前景。雖說阿斯麥在光刻機領域的地位堪比壟斷，失去了中國市場對阿麥斯來說也是一個巨大的打擊。

並且嚴格意義上來說，中國早就已經突破了光刻機技術，只是現階段我國研製的光刻機技術僅僅只達到了中高端水平，面對DUV及以下級別的光刻機我國具有一定的生產能力，但是在高精度光刻機領域，我國依舊是一片空白。不過，如今我國的最高學府，清華大學正在深入研究EUV光源問題，研究出的SSMB光源的潛在應用之一，便是作為為EUV光刻機的光源，一旦這一展望能夠實現，便意味著我國有望解決自主研發光刻機之中最核心的光源問題。

除了在核心問題上取得突破外，這段時間國產光刻機製造領域更是好消息頻出。前段時間上海微電子裝備有限公司對外宣稱，預計在2021年底或2022年初實現28納米精度的光刻機的量產。在國際方面，中國也著眼於國際光刻機製造領域，在力爭跟緊國際研究的同時，研究面向後摩爾時代的集成電路的顛覆性技術，簡單的來說就是在現有技術的基礎上著眼於未來，走出一條屬於中國人自己的道路，力爭彎道超車。

三、五年內國產光刻機產業有望發展成型

早在美國對中國實行技術封鎖之時，便有專家進行預測，中國在5年內便能實現光刻機核心技術國產化，這預測如今看來，雖然有些難度，但也並非完全不可能實現。總的來看中國擁有全球最大的市場，在核心技術方面也不斷取得突破，在5年內實現最頂端的光刻機技術完全國產化可能並不現實，但如果只是中高端機型實現大規模量產，這一點並不難做到。

我國在《中國製造2025》中明確要求，在2025年之前，我國必須完成20~14納米工藝設備國產化率達到30%的目標，並實現沉浸式光刻機國產化。從這份計劃中不難看出，中國已經加大了在光刻機領域的研發。而中國人一向言出必行，只要下達計劃，完成只是時間問題。

目前來說，在工業領域用處最大的光刻機主要體現在10~50納米，其中40~50納米級別的晶元，在市場中占據的份額更是十分驚人，雖然在精密元件之中，需要用到10納米以下精度的光刻機，但畢竟是少數。以目前的需求來看，我國在5年內滿足國產光刻機的大部分需求並不成問題。

但只有徹底攻克核心技術，才能實現我國在手機晶元等領域不在受制於人的局面，這一局面一旦形成便代表著我國徹底打破了用芯難的魔咒，屆時中國的核心 科技 產業必將能夠更上一層樓。

❹ 如果中國舉全國力量研發晶元和研製光刻機需要多長時間

感謝邀請

首先、可以肯定的是目前我國在晶元設計上並與全球頂尖水平差距並不是很大，差距主要在製造環節。

目前我國有很多晶元設計企業，有部分企業晶元設計能力已處於世界先進的地位，比如華為海思所設計的手機晶元已經達到世界第一梯隊的位置。

目前真正制約我國晶元發展的主要是在製造環節，因為把晶元設計出來之後要轉化為實實在在的晶元，需要通過晶圓廠家把它製造出來。

但是目前我國最先進的晶圓廠家是中芯國際，它能夠製造的晶元也只不過是14納米，這個跟國際目前已經量產的5納米仍然有很大的差距。

而制約我國晶元發展的有一個核心零部件就是光刻機。目前由上海微電子自主研發的28納米光刻機已經取得了技術上的突破，預計2021年將正式投產，但這跟ASML仍然有很大的差距。

所以綜合各種因素之後，我認為至少在未來10年之內，我國在晶元製造和高端光刻機上跟國際頂尖水平仍然會有一定的差距，這種差距即便舉國之力去研發，短期之內也是不可能完成縮小的。

❺ 中國什麼時侯能製造出達到國外水平的光刻機

以現在的技術來看我國確實達不到國外的水平，但是我們中國有決心，有耐心，我相信用不著太長的時間就會達到國外的水平。

❻ 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能，要多久

中國目前已經有了成熟的光刻機產品，只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。

目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一，這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作，從他們的產品中吸取經驗和教訓，進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢？國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作，我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截，那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大，短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路，那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看，我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上，想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事，在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁，說不定未來會創造奇跡呢？

❼ 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

❽ 中國何時能造出來自己的光刻機

現在世界上頂級的設備毋庸置疑就是ASML的5納米光刻機。這台機器如果一一拆分開來的話可以裝進大約40個集裝箱之中，超過100000萬個零件的總數量在機器領域絕對算得上是龐然大物。而且這10萬個零件之中，精密儀器、頂級光源、超穩定軸承和計量器一個都不少。它們分別來自全球各個國家，包括日本、德國和美國。而其中，美國為光刻機提供的基礎零件其實也比較多，正因如此他們才能如此硬氣的要求晶元代加工廠商禁止向華為輸出產品。

❾ 我們何時能研發製造出自己的高端光刻機呢

不是只能停留在跟隨仿製光刻機的層面，而是我們連跟隨仿製可能都做不到；雖然這話聽起來有點掃興，但是這就是我國的真實現狀。要想生產出高端光刻機，需要很多領域的頂級供應商相互配合，下面我就簡單列舉下生產高端光刻機需要的三項技術，也好讓大家知道製造自己的光刻機到底有多難。

EUV光刻機在進行工作的時候每反射一次都會造成30%的能量損失，一束光源在多次反射後基本上所剩無幾，這就需要高精度的反射鏡頭保證每次反射都能准確完成。目前在ASML目前主要的EUV光刻機上都是使用的卡爾蔡司
SMT
全反射4倍光學變焦鏡頭組件，如果沒有和卡爾蔡司一直在光學領域保持的良好合作，EUV光刻機可能現在還只能停留在設想中。

ASML的一位高管曾經放放眼就算是中國拿到高端光刻機的圖紙，也照樣生產不出來高端光刻機，這還真不是一句大話。一台光刻機是世界上多個公司頂級技術的智慧結晶，再加上我國的光刻機起步晚基礎差，想要追趕起來確實太難了。

可能很多朋友想知道中國的光刻機在多少年後可以追上ASML現在的標准，如果國家不計成本的給予資金和技術的投入，最樂觀的估計也要十年之久。不過我們國家在進步的同時ASML也不會原地踏步，到時候還是要被它遠遠甩開的。

❿ 華為多久能造出光刻機

最近有傳言華為正在招聘“光刻工藝工程師”，因此不少網友紛紛猜測：華為這是打算自己做光刻機嗎？甚至還有人說華為能夠在2年內搞定5nm的光刻機，這就有些太誇張了，事實也並非如此。由於眾所周知的原因，華為在今年很“難過”。雖然華為通過自研拿出了極為先進的5G晶元麒麟990，但是由於不具備晶元製造能力，麒麟晶元只能交由台積電進行代工。

但是由於台積電受到了巨大的外界壓力，終於在近期聲明會在9月14日起停止為華為代工晶元。事實上台積電從今年5月份開始就不再接收華為下的新訂單了，截至目前台積電已經為華為生產了800萬塊最新的麒麟晶元。

所以我認為，華為接下來自己製造光刻機的可能性不高，因為這個難度太大了。但是華為會加強與國內專業晶元供應鏈的合作，比如與中芯國際、上海微電子合作，派駐研發人員一起來攻克光刻機的難關。相信在國內企業的共同努力下，未來一兩年內實現28nm甚至14nm光刻機完全自主還是有可能的。

而到了14nm這個級別，至少用在手機和通信設備上是沒有問題的，可以保證華為的主營業務存續，剩下的則仍然需要慢慢追趕。至少光刻機技術最多也就到1nm，這就像是龜兔賽跑，雖然對手已經跑出很遠了，但終點就在那裡，只要肯投入研發力量，總有一天可以抵達的。