『壹』 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能,要多久
中國目前已經有了成熟的光刻機產品,只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。
目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一,這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作,從他們的產品中吸取經驗和教訓,進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢?國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作,我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截,那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大,短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路,那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看,我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上,想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事,在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁,說不定未來會創造奇跡呢?
『貳』 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來
中國光刻機生產落後,關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁,禁止中國從西方進口,用不了幾年,光刻機的生產就是趕不上他們,也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會,中國銀行聯盟基金會,給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持,派出國家院士團隊全力支持研發,不愁一年兩年搞不出來。
光刻機是一台機器,你可以不斷分解這台機器,一直到各獨立原件,尤其那些關鍵是幾個部件,你會發現,做這個部件,要列出一大堆工藝設備技術,如同一棵樹散出無數枝條和樹葉,葉脈你就不要糾結了,就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死!
有人說的好:“錢不是萬能的,但沒有錢是萬萬不能的”,但是還有人說的一句話更有道理:“有錢能解決的問題都不是問題”,而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的,否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買,為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元,不會把這些錢投入自己造啊,關鍵是有錢也造不出啊!有些領域一不能逆向模仿,二不能彎道超車,三不是喊“口號”喊出來的,抓緊追趕才是正道。
中國只要不計成本,搞出高端光刻機是早晚的事,如果高端晶元也搞出來,自己的光刻機給自己的晶元廠商用,不用再進囗,國外晶元廠商賣不動晶元,自然不再買光刻機,逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損,甚至垮台,中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。
『叄』 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破
月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了,在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味,給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機,其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼,以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。
中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子,目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機,但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點,就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙,並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利,只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件,研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0,還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理,只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上,盡快取得突破吧。
『肆』 5nm激光光刻技術,是否預示著我們即將能取代ASML
5nm激光光刻技術,預示著我們即將能取代ASML,但是5nm激光光刻技術還未安全成熟,因此還是要用ASML技術!
『伍』 我國已研發出5nm光刻技術,該技術能否真正投入生產使用
就是最近我們國家的中科院在5納米激光光刻的技術上面有了成功的突破,不過這個消息出來以後,有的媒體對這件事情解讀就太過於荒誕了,在這里有必要要說清楚一些情況。
另外還有一點就是媒體錯誤理解了一個概念,那就是中科院突破的5nm狹縫電極並不是晶元製造的都所有技術,這是一天很漫長的道路,而且激光光刻機用於工業上面也不合適,只適合用來做實驗。打個比方把晶元當成一個圖片還看待的話,那麼euv的光刻機是可以一次拍照成型,可是激光光刻機復雜程度就高了許多,還需要一條條按照線路來刻。因此在效率上來說根本不適合在工業生產之上使用。
因此中科院這一次技術突破不會對半導體產業有太大的影響,不過蚊子再小也是肉,也能作為一個技術儲備,將來能夠用作研發經驗來便於新的技術開發。因此投入生產使用現在來說是不可能的。
『陸』 如果中國舉全國力量研發晶元和研製光刻機需要多長時間
感謝邀請
首先、可以肯定的是目前我國在晶元設計上並與全球頂尖水平差距並不是很大,差距主要在製造環節。
目前我國有很多晶元設計企業,有部分企業晶元設計能力已處於世界先進的地位,比如華為海思所設計的手機晶元已經達到世界第一梯隊的位置。
目前真正制約我國晶元發展的主要是在製造環節,因為把晶元設計出來之後要轉化為實實在在的晶元,需要通過晶圓廠家把它製造出來。
但是目前我國最先進的晶圓廠家是中芯國際,它能夠製造的晶元也只不過是14納米,這個跟國際目前已經量產的5納米仍然有很大的差距。
而制約我國晶元發展的有一個核心零部件就是光刻機。目前由上海微電子自主研發的28納米光刻機已經取得了技術上的突破,預計2021年將正式投產,但這跟ASML仍然有很大的差距。
所以綜合各種因素之後,我認為至少在未來10年之內,我國在晶元製造和高端光刻機上跟國際頂尖水平仍然會有一定的差距,這種差距即便舉國之力去研發,短期之內也是不可能完成縮小的。
『柒』 中國何時能造出來自己的光刻機
現在世界上頂級的設備毋庸置疑就是ASML的5納米光刻機。這台機器如果一一拆分開來的話可以裝進大約40個集裝箱之中,超過100000萬個零件的總數量在機器領域絕對算得上是龐然大物。而且這10萬個零件之中,精密儀器、頂級光源、超穩定軸承和計量器一個都不少。它們分別來自全球各個國家,包括日本、德國和美國。而其中,美國為光刻機提供的基礎零件其實也比較多,正因如此他們才能如此硬氣的要求晶元代加工廠商禁止向華為輸出產品。
『捌』 中國5納米晶元何時能量產
中國5納米晶元2024年能量產
『玖』 華為最快需要多久才能造出光刻機
光刻機沒有那麼容易研究出來,我估計華為是在明修棧道暗渡陳昌,很可能是在功關碳基晶元或是光晶元,如果成功了整個硅晶元行業都完蛋,美國再也不能在晶元上卡中國,我們還會反過來卡他們
多久才能造出光刻機,雖然最近華為對光刻機研發和生產進行了大規模的動作挖人,技術累積。但是不得不說的是,光刻機是一個綜合性的領域,會需要比較多的高尖端的技術,同時發力才能夠正常的去造出一台光刻機,就算是阿斯麥,自己生產一台光刻機,也是以年來計數的。他的技術成熟了,但是實際生產機器的時候,周七也是非常長久的。所以想通過自研來解決這個問題,可能短時間內並沒有辦法做到,更多的會是一種對未來的期許和技術的累積。
這個真不好說…以一公司之力對抗歐美,困難可想而知,但這條路也是被美國逼的,成功了,改變世界格局,失敗了,那就喪失話語權,後果不好預料。看到這么多人對華為冷嘲熱諷,都不知道這些人怎麼想的。
首先要知道華為產業根本不涉及光刻機領域,所以從零開始進軍光刻機行業基本不可能,最好的方案就是聯合國內光刻機行業的一些龍頭企業進行聯合研發,以此來研發比較高端的光刻機。
就目前來講高端光刻機領域完全被荷蘭的ASML所壟斷,7納米euv光刻技術全球僅有阿斯麥爾掌握,所以Asml在光刻機領域可以說是領先全球。像日本尼康佳能等還有我國的上海微電子跟啊斯麥爾的差距還是很大。
其實之前的時候高端光刻機領域應該說是佳能尼康也有一席之位的,但是由於ASML特殊的商業模式導致全球高端光刻機市場都被ASML所佔,這也直接導致佳能尼康退出了高端光刻機市場。
再來回到華為這邊,華為的優勢在於其5G技術以及晶元設計等,晶元設計和生產都是晶元製造中非常重要的一環,而晶元生產最重要的也就是光刻機,幾個月前美國針對華為的制裁也是從晶元製造這個點扼制華為。所以說高端晶元製造還是我們的一大弱點,未來在高端產業的創新力我們還有很長的路要走。
你可以瀏覽華為公司官網上咨詢一下,可能會得到准確的信息或答案。
我們都知道光刻機,它是用來製造半導體晶元的設備,沒有光刻機,我們是無法製造出半導體晶元的。目前光刻機設備一直被國外荷蘭的阿邁斯ASML公司所壟斷,世界上最先進的半導體製程,基本上使用的都是阿邁斯的光刻機。在國內光刻機的發展還是比較緩慢的,特別是最先進的半導體製程,比如7納米、4納米,這些國內的光刻機是無法完成的。
華為是一家專注於自我生產、自我研發的企業,很多的晶元也開始慢慢進行自主設計和生產,特別是成立的海思半導體,已具備國際競爭的能力。受中美貿易戰的影響,導致美國加大了對華為的限制力度,特別是在進口半導體晶元上。由於光 科技 的技術比較復雜,牽扯到的技術種類特別多,並不是一朝一夕就可以完成的,它和一個國家的工業基礎是息息相關的,所以目前華為光刻機的進度還是比較緩慢的,如果說華為投入精力去搞的話,再加上國家的一些幫助,那麼至少還需要十幾年的時間才能研發出最先進的光刻機設備的。
所以對於華為研發光刻機設備,我們還是報以希望吧,希望未來十年之後能夠有國產的光刻機出現,擺脫國外的限制,能夠生產出我們屬於自己的光刻機!加油吧,華為!
20年吧
『拾』 蔣尚義需要多長時間才能研製出光刻機
我認為就目前的科技水平,蔣尚義還是需要很久才會研製出光刻機的,至少需要五年的時間才可以成功。因為需要解決的東西還需要很多。