中國還要多久造出光刻機

Ⅰ 中國何時能造出來自己的光刻機

現在世界上頂級的設備毋庸置疑就是ASML的5納米光刻機。這台機器如果一一拆分開來的話可以裝進大約40個集裝箱之中，超過100000萬個零件的總數量在機器領域絕對算得上是龐然大物。而且這10萬個零件之中，精密儀器、頂級光源、超穩定軸承和計量器一個都不少。它們分別來自全球各個國家，包括日本、德國和美國。而其中，美國為光刻機提供的基礎零件其實也比較多，正因如此他們才能如此硬氣的要求晶元代加工廠商禁止向華為輸出產品。

Ⅱ 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能，要多久

中國目前已經有了成熟的光刻機產品，只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。

目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一，這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作，從他們的產品中吸取經驗和教訓，進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢？國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作，我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截，那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大，短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路，那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看，我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上，想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事，在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁，說不定未來會創造奇跡呢？

Ⅲ 到2030年中國的光刻機水平如何

2030年實現1.5nm光刻。
隨著晶元製程越來越小，技術難度越來越高，摩爾定律放緩，台積電表示2024年可能實現量產2nm，1nm目前未知，而ASML的第二代EUV系統預期2024年問世，2030年實現1.5nm光刻。這對於中國而言是一個非常好的機會，我們國家目前想要在2030年的時候實現EUV光刻機國產化。

Ⅳ 華為最快需要多久才能造出光刻機

光刻機沒有那麼容易研究出來，我估計華為是在明修棧道暗渡陳昌，很可能是在功關碳基晶元或是光晶元，如果成功了整個硅晶元行業都完蛋，美國再也不能在晶元上卡中國，我們還會反過來卡他們

多久才能造出光刻機，雖然最近華為對光刻機研發和生產進行了大規模的動作挖人，技術累積。但是不得不說的是，光刻機是一個綜合性的領域，會需要比較多的高尖端的技術，同時發力才能夠正常的去造出一台光刻機，就算是阿斯麥，自己生產一台光刻機，也是以年來計數的。他的技術成熟了，但是實際生產機器的時候，周七也是非常長久的。所以想通過自研來解決這個問題，可能短時間內並沒有辦法做到，更多的會是一種對未來的期許和技術的累積。

這個真不好說…以一公司之力對抗歐美，困難可想而知，但這條路也是被美國逼的，成功了，改變世界格局，失敗了，那就喪失話語權，後果不好預料。看到這么多人對華為冷嘲熱諷，都不知道這些人怎麼想的。

首先要知道華為產業根本不涉及光刻機領域，所以從零開始進軍光刻機行業基本不可能，最好的方案就是聯合國內光刻機行業的一些龍頭企業進行聯合研發，以此來研發比較高端的光刻機。

就目前來講高端光刻機領域完全被荷蘭的ASML所壟斷，7納米euv光刻技術全球僅有阿斯麥爾掌握，所以Asml在光刻機領域可以說是領先全球。像日本尼康佳能等還有我國的上海微電子跟啊斯麥爾的差距還是很大。

其實之前的時候高端光刻機領域應該說是佳能尼康也有一席之位的，但是由於ASML特殊的商業模式導致全球高端光刻機市場都被ASML所佔，這也直接導致佳能尼康退出了高端光刻機市場。

再來回到華為這邊，華為的優勢在於其5G技術以及晶元設計等，晶元設計和生產都是晶元製造中非常重要的一環，而晶元生產最重要的也就是光刻機，幾個月前美國針對華為的制裁也是從晶元製造這個點扼制華為。所以說高端晶元製造還是我們的一大弱點，未來在高端產業的創新力我們還有很長的路要走。

你可以瀏覽華為公司官網上咨詢一下，可能會得到准確的信息或答案。

我們都知道光刻機，它是用來製造半導體晶元的設備，沒有光刻機，我們是無法製造出半導體晶元的。目前光刻機設備一直被國外荷蘭的阿邁斯ASML公司所壟斷，世界上最先進的半導體製程，基本上使用的都是阿邁斯的光刻機。在國內光刻機的發展還是比較緩慢的，特別是最先進的半導體製程，比如7納米、4納米，這些國內的光刻機是無法完成的。

華為是一家專注於自我生產、自我研發的企業，很多的晶元也開始慢慢進行自主設計和生產，特別是成立的海思半導體，已具備國際競爭的能力。受中美貿易戰的影響，導致美國加大了對華為的限制力度，特別是在進口半導體晶元上。由於光 科技 的技術比較復雜，牽扯到的技術種類特別多，並不是一朝一夕就可以完成的，它和一個國家的工業基礎是息息相關的，所以目前華為光刻機的進度還是比較緩慢的，如果說華為投入精力去搞的話，再加上國家的一些幫助，那麼至少還需要十幾年的時間才能研發出最先進的光刻機設備的。

所以對於華為研發光刻機設備，我們還是報以希望吧，希望未來十年之後能夠有國產的光刻機出現，擺脫國外的限制，能夠生產出我們屬於自己的光刻機！加油吧，華為！

20年吧