中國舉國之力做光刻機要多久

㈠ 中科院正式宣布，已研發出5nm光刻技術，距離造成5nm晶元還要多久

製造5nm晶元還要多久，這個時間很難說，為什麼？因為製造5nm晶元我國必須有自己的光刻機。這個機器非常難製造，記得美國用了近二十年的時間才在這方面占據領先位置。現在不同以往，我國追趕的話，要製造5nm晶元長則十年，短則三五年。

綜合來看，5nm晶元沒有三幾年難以實現，不過如果集合很多很多的資源並且可以光刻機，或者國內某個公司創造奇跡，那麼一兩年的時間都有可能。

㈡ 我國能不能自己造光刻機大家相信我國能造出來嗎

確保國家糧食安全才是最重要的，在工業生產領域門類齊全，技術夠用，怎麼都能對付，當然，吃飽飯，有閑錢的時候做一些基礎性前瞻性的技術研發和技術儲備對一個央央大國來說也很有必要！但糧食安全仍然是第一位的。

改革開放以前，南京無線電所就在研發光刻機，，，還有大飛機運十，大連523軍工廠主攻的是核電蓄電池和核電民用，後來這些項目先後下馬，造成今天被動的局面，挺多的遺憾。有些高精尖的產品研發，不是一朝一夕能完成，真的需要積累突破，發現問題一項一項解決攻克難關。

光刻機不是人多就能造出來的。它需要的透鏡的技術太苛刻，而且可能人工合成的透鏡無法達到要求。日本有世界上唯一一塊巨型天然透鏡，是從非洲發現並購買回來的。唯一性是不可代替的，多少人也沒辦法弄出來。日本的頂級光刻機可能隱藏沒有公布出來。

光刻機是集合很多國家的高科技企業，歷時十數年才有今天的成就，中間申請的專利權不計其數，光刻機製造原理都知道，要想製造出領先水平的光刻機，可能性微乎其微，因為首先你要繞過他們的專利技術，再製造出光源，光學鏡片，精密機械，不是一個國家三年、五年，甚至十年能辦成的事。

㈢ 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。

㈣ 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

㈤ 華為最快需要多久才能造出光刻機

光刻機沒有那麼容易研究出來，我估計華為是在明修棧道暗渡陳昌，很可能是在功關碳基晶元或是光晶元，如果成功了整個硅晶元行業都完蛋，美國再也不能在晶元上卡中國，我們還會反過來卡他們

多久才能造出光刻機，雖然最近華為對光刻機研發和生產進行了大規模的動作挖人，技術累積。但是不得不說的是，光刻機是一個綜合性的領域，會需要比較多的高尖端的技術，同時發力才能夠正常的去造出一台光刻機，就算是阿斯麥，自己生產一台光刻機，也是以年來計數的。他的技術成熟了，但是實際生產機器的時候，周七也是非常長久的。所以想通過自研來解決這個問題，可能短時間內並沒有辦法做到，更多的會是一種對未來的期許和技術的累積。

這個真不好說…以一公司之力對抗歐美，困難可想而知，但這條路也是被美國逼的，成功了，改變世界格局，失敗了，那就喪失話語權，後果不好預料。看到這么多人對華為冷嘲熱諷，都不知道這些人怎麼想的。

首先要知道華為產業根本不涉及光刻機領域，所以從零開始進軍光刻機行業基本不可能，最好的方案就是聯合國內光刻機行業的一些龍頭企業進行聯合研發，以此來研發比較高端的光刻機。

就目前來講高端光刻機領域完全被荷蘭的ASML所壟斷，7納米euv光刻技術全球僅有阿斯麥爾掌握，所以Asml在光刻機領域可以說是領先全球。像日本尼康佳能等還有我國的上海微電子跟啊斯麥爾的差距還是很大。

其實之前的時候高端光刻機領域應該說是佳能尼康也有一席之位的，但是由於ASML特殊的商業模式導致全球高端光刻機市場都被ASML所佔，這也直接導致佳能尼康退出了高端光刻機市場。

再來回到華為這邊，華為的優勢在於其5G技術以及晶元設計等，晶元設計和生產都是晶元製造中非常重要的一環，而晶元生產最重要的也就是光刻機，幾個月前美國針對華為的制裁也是從晶元製造這個點扼制華為。所以說高端晶元製造還是我們的一大弱點，未來在高端產業的創新力我們還有很長的路要走。

你可以瀏覽華為公司官網上咨詢一下，可能會得到准確的信息或答案。

我們都知道光刻機，它是用來製造半導體晶元的設備，沒有光刻機，我們是無法製造出半導體晶元的。目前光刻機設備一直被國外荷蘭的阿邁斯ASML公司所壟斷，世界上最先進的半導體製程，基本上使用的都是阿邁斯的光刻機。在國內光刻機的發展還是比較緩慢的，特別是最先進的半導體製程，比如7納米、4納米，這些國內的光刻機是無法完成的。

華為是一家專注於自我生產、自我研發的企業，很多的晶元也開始慢慢進行自主設計和生產，特別是成立的海思半導體，已具備國際競爭的能力。受中美貿易戰的影響，導致美國加大了對華為的限制力度，特別是在進口半導體晶元上。由於光 科技 的技術比較復雜，牽扯到的技術種類特別多，並不是一朝一夕就可以完成的，它和一個國家的工業基礎是息息相關的，所以目前華為光刻機的進度還是比較緩慢的，如果說華為投入精力去搞的話，再加上國家的一些幫助，那麼至少還需要十幾年的時間才能研發出最先進的光刻機設備的。

所以對於華為研發光刻機設備，我們還是報以希望吧，希望未來十年之後能夠有國產的光刻機出現，擺脫國外的限制，能夠生產出我們屬於自己的光刻機！加油吧，華為！

20年吧

㈥ 中國舉國之力發展晶元技術，你覺得未來5年內會有大的飛躍嗎

感謝題主的這個頗有思考意義的話題，下面來補充一下個人看法~概況：半導體產業國產化已經沖刺多年。半導體產業來說，咱技術經驗落後、資金投入不夠、市場規模差距大要坦誠。不過咱們不是一片空白。從上游材料設備到中游設計製造，再到下游封測，我國半導體產業鏈各個環節的國產化發展和競爭也異常激烈。事實上，半導體產業國產化的歷程已經沖刺多年。

光刻機、蝕刻機、晶元設計、晶元製造等各方面都在努力攻堅，取得了突破性進展，有的已經打破國外壟斷。光刻機領域上海微電子一馬當先，刻蝕機領域中微半導體、北方華創雙雙出擊、紫光集團存儲芯突破……

結語：難，總要開始。信息技術為代表的高新技術和產業正飛速發展，軟體產業和集成電路（IC）產業的發展，已成為這場全球競賽的重要技術基礎與核心。回看國產化歷程，其實也是對外突破層層限制封鎖，對內從無到有逐步萌芽與發展的故事，國產半導體設備廠商仍需砥礪前行。