中國紫外光刻機多久能製造

① 華為多久能造出光刻機

最近有傳言華為正在招聘“光刻工藝工程師”，因此不少網友紛紛猜測：華為這是打算自己做光刻機嗎？甚至還有人說華為能夠在2年內搞定5nm的光刻機，這就有些太誇張了，事實也並非如此。由於眾所周知的原因，華為在今年很“難過”。雖然華為通過自研拿出了極為先進的5G晶元麒麟990，但是由於不具備晶元製造能力，麒麟晶元只能交由台積電進行代工。

但是由於台積電受到了巨大的外界壓力，終於在近期聲明會在9月14日起停止為華為代工晶元。事實上台積電從今年5月份開始就不再接收華為下的新訂單了，截至目前台積電已經為華為生產了800萬塊最新的麒麟晶元。

所以我認為，華為接下來自己製造光刻機的可能性不高，因為這個難度太大了。但是華為會加強與國內專業晶元供應鏈的合作，比如與中芯國際、上海微電子合作，派駐研發人員一起來攻克光刻機的難關。相信在國內企業的共同努力下，未來一兩年內實現28nm甚至14nm光刻機完全自主還是有可能的。

而到了14nm這個級別，至少用在手機和通信設備上是沒有問題的，可以保證華為的主營業務存續，剩下的則仍然需要慢慢追趕。至少光刻機技術最多也就到1nm，這就像是龜兔賽跑，雖然對手已經跑出很遠了，但終點就在那裡，只要肯投入研發力量，總有一天可以抵達的。

② 光刻機是怎麼工作的一台光刻機一年能製造多少晶元

光刻機發出的光用於通過帶有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光。光刻電阻的特性在看到光後會發生變化，從而使掩模中的圖形可以復制到薄片上，使薄片具有電子電路圖的功能。這是光刻的功能，類似於照相機攝影。相機拍攝的照片列印在底片上，而照片不被記錄，而是電路圖和其他電子元件。根據網上資料顯示，一台光刻機一天大約可以有效製造600塊左右，一年就可以製造差不多21.9萬塊晶元。

光刻機為什麼會如此的重要？

目前，無論是手機晶元、汽車晶元還是其他領域，包括軍事、航空航天等應用，晶元都離不開光刻。現在世界上的晶元仍然是硅基晶元。經過近半個世紀的發展，晶元的關鍵尺寸逐漸縮小，從最初的電子管到晶體管，再到集成電路的發明。目前，我們僅有的技術是光刻技術。因此，如果沒有光刻機，晶元就無法正常製造，目前也沒有替代光刻機的產品。

③ 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

④ 華為最快需要多久才能造出光刻機

光刻機沒有那麼容易研究出來，我估計華為是在明修棧道暗渡陳昌，很可能是在功關碳基晶元或是光晶元，如果成功了整個硅晶元行業都完蛋，美國再也不能在晶元上卡中國，我們還會反過來卡他們

多久才能造出光刻機，雖然最近華為對光刻機研發和生產進行了大規模的動作挖人，技術累積。但是不得不說的是，光刻機是一個綜合性的領域，會需要比較多的高尖端的技術，同時發力才能夠正常的去造出一台光刻機，就算是阿斯麥，自己生產一台光刻機，也是以年來計數的。他的技術成熟了，但是實際生產機器的時候，周七也是非常長久的。所以想通過自研來解決這個問題，可能短時間內並沒有辦法做到，更多的會是一種對未來的期許和技術的累積。

這個真不好說…以一公司之力對抗歐美，困難可想而知，但這條路也是被美國逼的，成功了，改變世界格局，失敗了，那就喪失話語權，後果不好預料。看到這么多人對華為冷嘲熱諷，都不知道這些人怎麼想的。

首先要知道華為產業根本不涉及光刻機領域，所以從零開始進軍光刻機行業基本不可能，最好的方案就是聯合國內光刻機行業的一些龍頭企業進行聯合研發，以此來研發比較高端的光刻機。

就目前來講高端光刻機領域完全被荷蘭的ASML所壟斷，7納米euv光刻技術全球僅有阿斯麥爾掌握，所以Asml在光刻機領域可以說是領先全球。像日本尼康佳能等還有我國的上海微電子跟啊斯麥爾的差距還是很大。

其實之前的時候高端光刻機領域應該說是佳能尼康也有一席之位的，但是由於ASML特殊的商業模式導致全球高端光刻機市場都被ASML所佔，這也直接導致佳能尼康退出了高端光刻機市場。

再來回到華為這邊，華為的優勢在於其5G技術以及晶元設計等，晶元設計和生產都是晶元製造中非常重要的一環，而晶元生產最重要的也就是光刻機，幾個月前美國針對華為的制裁也是從晶元製造這個點扼制華為。所以說高端晶元製造還是我們的一大弱點，未來在高端產業的創新力我們還有很長的路要走。

你可以瀏覽華為公司官網上咨詢一下，可能會得到准確的信息或答案。

我們都知道光刻機，它是用來製造半導體晶元的設備，沒有光刻機，我們是無法製造出半導體晶元的。目前光刻機設備一直被國外荷蘭的阿邁斯ASML公司所壟斷，世界上最先進的半導體製程，基本上使用的都是阿邁斯的光刻機。在國內光刻機的發展還是比較緩慢的，特別是最先進的半導體製程，比如7納米、4納米，這些國內的光刻機是無法完成的。

華為是一家專注於自我生產、自我研發的企業，很多的晶元也開始慢慢進行自主設計和生產，特別是成立的海思半導體，已具備國際競爭的能力。受中美貿易戰的影響，導致美國加大了對華為的限制力度，特別是在進口半導體晶元上。由於光 科技 的技術比較復雜，牽扯到的技術種類特別多，並不是一朝一夕就可以完成的，它和一個國家的工業基礎是息息相關的，所以目前華為光刻機的進度還是比較緩慢的，如果說華為投入精力去搞的話，再加上國家的一些幫助，那麼至少還需要十幾年的時間才能研發出最先進的光刻機設備的。

所以對於華為研發光刻機設備，我們還是報以希望吧，希望未來十年之後能夠有國產的光刻機出現，擺脫國外的限制，能夠生產出我們屬於自己的光刻機！加油吧，華為！

20年吧