中國光刻機多久可以趕上asml

❶ ASML是唯一能製造極紫外光刻機的廠商，晶元製造到底有多難

近幾年來，中國科技行業遭到國外的嚴重打壓，尤其是電子晶元成為我國半導體領域最突出的短板，生產晶元最重要的設備是光刻機，世界上先進的光刻機主要由荷蘭一家名為阿斯麥（ASML）的公司製造，市場佔有率超過80%，而其中最先進的極紫外光刻機（EUV光刻），全世界只有ASML一家公司能製造。

ASML

ASML雖然是一家荷蘭的公司，但是出口光刻機受到西方國家的嚴格控制，ASML的大股東包括美國因特爾、台灣積體電路製造（台積電）、韓國的三星、荷蘭皇家飛利浦電子公司等等，其中因特爾佔有股份大約為15%，台積電大約5%。

在這樣的情況下，中國晶元產業的發展舉步維艱，光刻機包含的關鍵技術太多，一時半會我們是繞不過去的；其實中國並不缺乏人才，只不過人才要用到什麼領域，需要政策引導才行，想到中國天眼FAST在2018年的一次網上招聘，年薪10萬難覓駐地科研人才，讓人感慨不已。

❷ 中國目前光刻機處於怎樣的水平你知道嗎

前些年華為缺芯事件鬧得沸沸揚揚。如今華為自主研發晶元讓國人為之自豪，但是又有一個問題難道不可以自己製造晶元嗎？我們要知道製造晶元需要使用光刻機。但是縱觀全球晶元公司，有這個技術和設備的只有三星公司了。它既可以自主研發又可以製造晶元，基本上壟斷了行業晶元。但是反觀中國目前的光刻機仍不能達到製作高端晶元的要求，技術還很落後。

要製作出一台精良的光刻機，要做很多的攻堅，不僅要達到美國光源、德國鏡頭的高層面，還有許許多多的精密儀器。中國光刻機任重道遠！在這些精密儀器的背後，同樣也需要更多的人才、研究技術、時間投入、技術的積累同樣也需要大量的資金。相信中國也會克服這一困難，從此不再受他國制約。

❸ 中國的光刻機是什麼水平與世界先進還有多大差距如何追趕

摘要 你好，中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。

❹ 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破

月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了，在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味，給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機，其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼，以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。

中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子，目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機，但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點，就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙，並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利，只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件，研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0，還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理，只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上，盡快取得突破吧。

❺ 如果中國舉全國力量研發晶元和研製光刻機需要多長時間

感謝邀請

首先、可以肯定的是目前我國在晶元設計上並與全球頂尖水平差距並不是很大，差距主要在製造環節。

目前我國有很多晶元設計企業，有部分企業晶元設計能力已處於世界先進的地位，比如華為海思所設計的手機晶元已經達到世界第一梯隊的位置。

目前真正制約我國晶元發展的主要是在製造環節，因為把晶元設計出來之後要轉化為實實在在的晶元，需要通過晶圓廠家把它製造出來。

但是目前我國最先進的晶圓廠家是中芯國際，它能夠製造的晶元也只不過是14納米，這個跟國際目前已經量產的5納米仍然有很大的差距。

而制約我國晶元發展的有一個核心零部件就是光刻機。目前由上海微電子自主研發的28納米光刻機已經取得了技術上的突破，預計2021年將正式投產，但這跟ASML仍然有很大的差距。

所以綜合各種因素之後，我認為至少在未來10年之內，我國在晶元製造和高端光刻機上跟國際頂尖水平仍然會有一定的差距，這種差距即便舉國之力去研發，短期之內也是不可能完成縮小的。

❻ 中國有可能研發出成熟的光刻機嗎如果能，要多久

中國目前已經有了成熟的光刻機產品，只是說在技術水平上和光刻機的領頭羊ASML差距比較大而已。

目前國內的研發環境並不算好毫無疑問光刻機算的上目前科技界最頂尖的技術之一，這種技術要完成趕超需要不斷的和其他國家交流合作，從他們的產品中吸取經驗和教訓，進而才能在有限的時間內完成趕超。但是現在是什麼情況呢？國外的企業在光刻機領域紛紛拒絕合作，我們只能選擇閉門造車。只要美國不放鬆對國內光刻機企業的圍追堵截，那麼我們只能投入巨額的資金和技術慢慢追趕。不過ASML公司的產品已經和國內產品差距太大，短時間內沒有任何追趕上的可能性。如果我們想要繞過現有的光刻機技術走出一條自研道路，那麼需要的時間可能更久。從目前的形勢上看，我們的光刻機如果想追上現在國際一流水準的話最起碼都要十年以上，想要完成趕超更是天方夜談。不過現在壓力大也是好事，在強壓的下的中國企業肯定會更有拼勁，說不定未來會創造奇跡呢？

❼ 中國目前光刻機處於怎樣的水平

按照高端、中端、低端三個檔次來劃分的話，中國目前是屬於第三檔，正在努力的向第二檔邁進。

由於早些年國內對光刻機這塊並不算重視，導致中國光刻機的起步晚、資金投入少、人才也相對不足，這些都是需要解決的問題。除非由國家牽頭並且進行人才資源的相關傾斜，否則國產光刻機最多也就能達到中端水平，基本上不具備追趕上ASML公司的可能性。

❽ 中國光刻機明年可以達到世界先進的水平，開始邁入晶元強國

答案是很明顯的，即使中國光刻機明年可以達到世界先進的水平，但想要邁入晶元強國，仍有一段很遙遠的距離。大家都知道，然後成為晶元強國依賴於晶元光刻機我知道水準，然而雖然在2019年，中芯國際實現了第一代14納米FinFET工藝量產，但是中芯國際擁有的最先進14nmFinFET工藝，仍然不是完全自主的一項技術。而真正能夠代表國產光刻機技術水準的依然是上海微電子，但是目前它的技術仍然停留在90nm工藝的水準，在全球晶元製造技術上仍然是處於最低的水準。

總而言之，中國想要成為晶元強國，首先就要國內的晶元光刻機設備能夠跟得上世界的水平，而仍然依賴進口高端光刻機的中國，想要邁入晶元強國仍然需要時間和努力。

❾ 晶元製造專用的前道國產光刻機現在進展情況如何了是不是連28NM都沒有突破

最近半導體領域之中傳來了兩個好消息，首先就是華為旗下的哈勃投資了北京科益虹源光電技術公司，並且成為了這家企業的第七大股東。北京科益虹源主營業務是光源系統，而光源系統就是製造光刻機的核心技術之一。同時，北京科益虹源也是全球第三家193納米ARF准備分子激光器企業。

第二個好消息是，國產光刻機巨頭上海微電子目前已經表示，新一代的光刻機會在今年年底或者是明年年初實現量產，而在光源系統之中，採用了與阿斯麥DUV光刻機一樣的光源技術，波長突破了193納米。這就意味著國產代工企業將在今年或者是明年年底就能夠實現7納米工藝的代工水平，並且是在沒有阿斯麥光刻機的情況之下。

可以說光刻機領域之中接連傳來這兩個好消息，對於我們而言，對於國產晶元未來的發展而言，起到了一定推促的促進作用，畢竟一直以來在光刻機領域之中，荷蘭的阿斯麥占據絕對的壟斷地位，尤其是在極紫外光刻機領域之中，更是處於絕對壟斷的地位。

而國內在晶元上的短板就是因為缺少極紫外光刻機，所以導致中國企業沒有辦法生產出7納米以及5納米這樣先進製程工藝的晶元。2018年，中芯國際曾經從阿斯麥買訂購過一台euv光刻機，但是說到瓦森納協定的影響，阿斯麥至今都沒有出貨這台EUV光刻機

後面中興以及華為的限制使得國內科技企業自主研發的意識被徹底喚醒，於是在這樣的情況之下，所有的國內廠商將希望全部中寄託在了中國光刻機企業身上。為了解決這一難題，華為在第一時間就宣布紮根半導體領域，另外，中科院也宣布入局光刻機，並且將光刻機變成科研清單。

好在伴隨著時間的推移，如今一個又一個的好消息傳來。關於光刻機的兩個好消息傳來，意味著中國心再次迎來了春天。而這對於阿斯麥來講當然不是什麼好事情。

北大教授曾經說過這樣一句話，如果中國依舊拿不到阿斯麥的光刻機，那麼在三年之後，中國就將會掌握這項技術，並且一旦中國掌握了這項技術，那麼其生產的產本成本一定比任何一個國家都要便宜。

北大教授的這一番話，可以說對於阿斯麥來講，更是一個重磅炸彈，失去中國市場的阿斯買強會面臨地位的威脅，如今日本的尼康以及佳能正在不斷崛起，挑戰這阿斯麥所在的地位，如果中國真的掌握了光刻機技術，那麼阿斯麥想要在進入國內市場基本上沒有可能，更不要提憑借中國市場穩固其地位的夢想了。

光刻機的問題解決了，那麼晶元的問題自然也就不是問題了。早在晶元禁令實施之初，張召忠就曾經公開表示，再過三年，美國的晶元將會無人購買，因為到那個時候，中國的晶元將會到處都是。

如今看起來，張召忠果然沒有說錯，相信過不了多久，我們在晶元領域也一定會迎來一定的突破，中國晶元在未來一定會擁有更好的發展，而對中國企業實行打壓的矽谷，在將來也一定會嘗到失去中國市場的苦果。