1. 我國光量子晶元目前處於什麼狀態!是續研發還是投入試產距離商用還需幾年時間投入大規模量產
目前我國光量子芯是處於一個早期階段,是投入試產,至少需要8~10年的時間投入大規模量產!
2. 中國晶元製造技術取得突破,我國晶元行業要多久才可以趕上美國
這個沒有一個准確的時間,我覺得只要我們潛心研發科學技術。應該能夠很快的實現自己的夢想,畢竟我國的人才也是非常多的。
3. 「神獸」光刻機之戰,大膽猜測哪一家中國公司能夠解光刻機之圍
如果說自主技術,其實我國的光刻機還停留在上海微電子(SMEE)的90nm水平,而事實上它卻代表著國內最先進的光刻機水準。而光刻機巨頭ASML目前的水平是7nm EUV,事實上它也正朝著更先進的極紫外光刻機5nm工藝水平邁進了。國內外水平差距明顯。
目前國內相關的機構也在重點突破光刻機技術,比如中科院光電所已經研究出光刻分辨力達22nm的技術,結合雙重曝光技術可以實現10nm晶元的製造。但要明確是,要實現光刻機量產,需要數萬個零部件要達到高精準度來支撐,目前國內產業鏈仍未達到。確實,與一些發達國家在晶元製造方面存在很大差距,主要原因是光刻機的局限性。難在高端零部件難以單獨生產,難在紫外光源,難在精密機械工藝…即使是國內最先進的上海微電子,也還有相當長的路要走。