A. 我國的光刻機5納米生產技術要多久才能突破
月初一條「中科院5nm激光光刻技術突破」的新聞火了,在很多無良自媒體的口中這則新聞完全變了味,給人的感覺像是中國不久將會擁有自己的5nm光刻機,其實真實情況完全不是一回事。下面我們就來談談這則新聞真實的內容到底是什麼,以及中國光刻機5nm生產技術還要多久才能取得突破。
中國和荷蘭ASML的差距最起碼也在十年以上現在國內最好的光刻機生產企業應該是上海微電子,目前生產的最好光刻機也只是90nm的製程。盡管有傳言說上海微電子明年將會推出28nm的全新光刻機,但是和ASML的EUV光刻機精度依舊相差甚遠。中國想要生產5nm的光刻機有一個最大的難點,就是自主研發。這不光意味著我們需要跨越從28nm到5nm這個巨大的障礙,並且在突破的過程中最好不要使用其他國家的專利,只能發展出一條屬於自己的光刻機道路。需要達成這么多的條件,研發的難度可想而知。總的來說短時間內我國的光刻機技術取得重大突破的概率為0,還是要被人牽著鼻子走。落後就要被挨打卡脖子在任何時候都是真理,只希望我們國家的科研人員能夠迎頭趕上,盡快取得突破吧。
B. 中國半導體行業何時才能超越台積電,製造出屬於自己的中國芯
製造出屬於自己的中國芯,估計再過20年吧。中芯國際最早在2035年才能追平台積電,讓中國就有了自己的3納米以下晶元,和美國、韓國以及中國台灣也有的並非自己的3納米以下晶元同為全球頂級,中國不再只有7、5納米這樣的屬於自己的晶元;至少再過5年才能超越台積電,獨自登頂全球晶元製造,讓中國獨有了屬於自己的1納米以下晶元。
從此,哪個環節和領域的中國晶元企業就都不會再出現被卡脖子的情況,美國及其盟國盟友根本就沒有這樣的機會了。當然,中國不會去卡別國包括美國及其盟國盟友的晶元企業的脖子,而是一如既往、不計前嫌地推動國內晶元企業去主動積極地提供最好的服務,其結果將是提升全球供應鏈的水平。