中國100億光刻機有哪些

⑴ 中國有大型國企研發製造光刻機嗎

光刻機是晶元製造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用於生產晶元的光刻機；有用於封裝的光刻機；還有用於LED製造領域的投影光刻機。用於生產晶元的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板。

光刻機被稱為「人類最精密復雜的機器」，該領域的龍頭老大是荷蘭ASML，並已經壟斷了高端光刻機市場。荷蘭ASML公司EUV光刻機售價高達1億美元，而且只有ASML能夠生產。

相比之下，中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司（SMEE）已經量產的光刻機中，性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm，相當於2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經達到了7納米，正因如此，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。

⑵ 中國光刻機

中國光刻機歷程

1964年中國科學院研製出65型接觸式光刻機；1970年代，中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩膜工藝；清華大學研製第四代分部式投影光刻機，並在1980年獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。而那時，光刻機巨頭ASML還沒誕生。

然而，中國在1980年代放棄電子工業，導致20年技術積累全部付諸東流。1994年武漢無線電元件三廠破產改制，賣副食品去了。

1965年中國科學院研製出65型接觸式光刻機。

1970年代，中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩模工藝。

1972年，武漢無線電元件三廠編寫《光刻掩模版的製造》。

1977年，我國最早的光刻機GK-3型半自動光刻機誕生，這是一台接觸式光刻機。

1978年，1445所在GK-3的基礎上開發了GK-4，但還是沒有擺脫接觸式光刻機。

1980年，清華大學研製第四代分步式投影光刻機獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。

1981年，中國科學院半導體所研製成功JK-1型半自動接近式光刻機。

1982年，科學院109廠的KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低，最保守估計跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年。

1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，通過電子部技術鑒定，認為達到美國4800DSW的水平。這應當是中國第一台分步投影式光刻機，中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年。

但是很可惜，光刻機研發至此為止，中國開始大規模引進外資，有了＂造不如買」科技無國界的思想。光刻技術和產業化，停滯不前。放棄電子工業的自主攻關，諸如光刻機等科技計劃被迫取消。

九十年代以來，光刻光源已被卡在193納米無法進步長達20年，這個技術非常關鍵，這直接導致ASML如此強勢的關鍵。直到二十一世紀，中國才剛剛開始啟動193納米ArF光刻機項目，足足落後ASML20多年。

⑶ 國產最先進光刻機

第一，目前全球最先進的光刻機，已經實現5nm的目標。這是荷蘭ASML實現的。

而ASML也不是自己一家就能夠完成，而是國際合作才能實現的。其中，製造光源的設備來自美國公司；鏡片，則是來源於德國的蔡司公司等。這也是全球技術的綜合作用。

有關報道中的「全新的技術」，也就是中國科研工作者在關鍵部件完全國產化情況下，實現的這一次技術突破

中國和世界頂尖光刻機製造還有很大差距。

華為麒麟受制於人，中芯國際不堪大用，澎湃晶元久不見進展，虎憤晶元勉強能用。

實用更是有很遠的路要走。

大家放平心態。

⑷ 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。

⑸ 生產光刻機有哪些上市公司

生產光刻機上市公司有ABM、上海微電子裝備有限公司、佳能、尼康、荷蘭ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立於1986年，總部位於美國矽谷San Jose。主要經營光罩對准曝光機（光刻機），單獨曝光系統,光強儀/探針。公司的主要市場在美國和亞洲。

2、上海微電子裝備有限公司

上海微電子裝備有限公司坐落於張江高科技園區內，鄰近國家集成電路產業基地、國家半導體照明產業基地和國家863信息安全成果產業化（東部）基地等多個國家級基地。

公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務，公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

3、佳能

佳能的產品系列共分布於三大領域：個人產品、辦公設備和工業設備，主要產品包括照相機及鏡頭、數碼相機、列印機、復印機、傳真機、掃描儀、廣播設備、醫療器材及半導體生產設備等。

4、尼康

尼康作為世界上僅有的三家能夠製造商用光刻機的公司，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道尼康的相機做的好，卻不知道尼康光刻機同樣享譽全球。

5、荷蘭ASML公司

這是一家總部設在荷蘭艾恩德霍芬（Veldhoven）的全球最大的半導體設備製造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。

參考資料來源：網路-荷蘭ASML公司

參考資料來源：網路-尼康

參考資料來源：網路-佳能

參考資料來源：網路-上海微電子裝備有限公司

參考資料來源：網路-ABM

⑹ 中國大陸哪幾家企業生產光刻機

成都興林真空設備有限公司主營業務是光刻機生產加工，光刻機主要用途來自以下場景：

（1）光刻機用於大學研發、實驗室設備。

（2）工廠用於做空空導彈跟蹤器、發光二極體、感測器、手機晶元、霍爾元件

A、發光二極體：用於在十字路口紅綠燈、公交車、汽車燈用在每到一站的顯示。

B、感測器：用於高鐵到站傳輸信號准確定位。

C、手機晶元：用在手機卡上，還有手機顯示屏面。

D、霍爾元件：用於冰箱開燈亮、關燈熄滅。

E、衛星：衛星上面用於衛星角度的調整。

主要合作院校和單位有：

中國科學院半導體研究所、中國工程物理研究所

清華大學、北京大學、北京理工大學、復旦大學

南開大學、福州大學、浙江大學、武漢大學

安徽大學、華東師范大學、東北大學、廈門理工學院

中國核動研究設計院、重慶技術職工學院、成都理工大學

貴州大學、昆明理工大學、華南師范大學、青島航天半導體研究所

常州銀河電器有限公司、浙江正邦電子股份有限公司、江蘇一光儀器有限公司

江蘇車晨電子科技有限公司、上海航天控制技術研究所、上海空間研究中心

⑺ 哪一光刻機巨頭，占據了國內的80%市場

上海微電子裝備股份有限公司，在國內占據了百分之八十的市場份額，到目前為止該公司已在微電子製造相關領域申請了2400餘項專利，稱得上是國內的光刻機巨頭了。

⑻ 光刻機是晶元製造的關鍵，現在在中國有哪些企業能夠研製光刻機

光刻機是晶元製造的關鍵設備，我國投入研發的公司有微電子裝備(集團)股份，長春光機所，中國科學院等都在研發，合肥芯碩半導體有限公司，先騰光電科技有限公司，先騰光電科技有限公司， 合肥芯碩半導體有限公司都有研發以及製造。而且有了一定的科研成果，但是目前我國高端晶元的製造卻主要依賴荷蘭進口的光刻機。我國光刻機在不斷發展但是與國際三巨頭尼康佳能（中高端光刻機市場已基本沒落）ASML（中高端市場近乎壟斷）比差距很大。

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月,是國內首家半導體直寫光刻設備製造商。該公司自主研發的ATD4000,已經實現最高200nm的量產。

無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。無錫影速成立與2015年1月,影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。影速公司已成功研製用於半導體領域的激光直寫/製版光刻設備、國際首台雙檯面高速激光直接成像連線設備(LDI),已經實現最高200nm的量產。

先騰光電成立於2013年4月,已經實現最高200nm的量產,在2014國際半導體設備及材料展覽會上,先騰光電亮出了完全自主知識產權的LED光刻機生產技術,震驚四座。

⑼ 中國能造光刻機嗎

以我國現在的實力當然有能力生產光刻機。在很早以前，中國上海微電子SMEE就已經生產了SSB500/10A型號的光刻機產品，並且已經交付使用，不過，目前中國能夠量產的光刻機性能最好的是90nm光刻機，和荷蘭ASML公司最先進的5nm光刻機仍有著巨大的差異，然而製造先進光刻機技術的封鎖，那我們還無法學到難道更為先進的光刻機技術，以致於現在國內所需要的高端光刻機也只能依賴進口。
現在，在高端光刻機領域荷蘭ASML一直霸佔了龍頭老大的位置，他們生產的光刻機占據了市場份額的80%左右，可以說近乎壟斷了高端光科技的市場，目前在世界上最先進的EUV光刻機也只有ASML能夠生產，而這種光刻機的售價高達1億美元一台，無論是Intel還是台積電所需要的14nm光刻機，都需要從他們這里購買。