中國光刻機發展如何

1. 中國目前光刻機處於怎樣的水平

按照高端、中端、低端三個檔次來劃分的話，中國目前是屬於第三檔，正在努力的向第二檔邁進。

由於早些年國內對光刻機這塊並不算重視，導致中國光刻機的起步晚、資金投入少、人才也相對不足，這些都是需要解決的問題。除非由國家牽頭並且進行人才資源的相關傾斜，否則國產光刻機最多也就能達到中端水平，基本上不具備追趕上ASML公司的可能性。

2. 中國光刻機明年可以達到世界較為先進的水平，開始邁入晶元強國嗎

很多人將關注的焦點放在了手機和PC的晶元，忽略了大多數的晶元其實不需要很先進的製程，不是製程先進不好而是成本更加的重要，比如很多IoT晶元，14nm對於多數行業已經夠了。高端光刻機所實現更小nm級別的製程，主要應用在對續航和晶元體積有要求的終端上，如手機和平板電腦。晶元的本質晶元的本質就是將大規模的集成電路小型化，並且封裝在方寸之間的空間內。英特爾10nm一個單位占面積54*44nm，每平方毫米1.008億個晶體管。（1nm是一根頭發絲直徑的10萬分之一）

綜上所述，未來的競爭說到底還是人才的競爭，是數學、物理、化學等基礎科學的競爭。顯而易見，中國光刻機明年不可能達到世界先進的水平，但誰能說得清楚下一個5年、10年就發生了呢？以上個人淺見，歡迎批評指正。喜歡的可以關注我，謝謝！認同我的看法的請點個贊再走，再次感謝！

3. 為什麼唱衰中國光刻機製造，十年都造不出來的評論少了

雖說中國的光刻機起步比不少國家都要早一些，但是由於各種原因現在已經全面落後於第一梯隊。最近不少朋友發現盡管中國光刻機在短時間內沒法取得突破，但是唱衰中國光刻機製造的負面聲音確實少了很多。這到底是什麼原因呢？我認為有如下三點。

碳基晶元有望繞過光刻機壁壘在今年6月初中科院院士、北京大學教授彭練矛和張志勇所率領的團隊在國際權威學術雜志《科學》上刊登了一篇關於碳基晶元的文章，表示在新一代碳基晶元的研發上取得突破性進展。根據文章顯示碳基晶元不止運行速度更快，並且更加節能，很可能是未來晶元發展的新方向。最關鍵的一點的這項技術並沒有用到光刻機，這意味著如果碳基晶元真的能夠上市的話，光刻機再也不能成為美國卡中國脖子的「利器」。不過這項技術短期內商用還存在不少的難題，還需要接下來取得更多的突破。不得不承認很多朋友現在更加理性，感覺承認不足，我覺得這是特別棒的一件事。中國在以前有太多項技術落後於其他國家，最後都被我們慢慢追趕了上來。只要我們憋著一股勁，終有一天別的國家有的我們全有，我們已經有的會發展的更好！

4. 我國光刻機的發展現狀怎麼樣工業電子市場網

產業鏈——在半導體產業中占據重要地位

光刻機又名：掩模對准曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶元的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了晶元的性能和功耗。

光刻機產業的上游主要包括光刻機核心組件和光刻機配套設施，下游則主要應用於半導體/集成電路的製造與封裝。

——以上數據參考前瞻產業研究院《中國半導體產業戰略規劃和企業戰略咨詢報告》。

5. 中國目前光刻機處於怎樣的水平你知道嗎

前些年華為缺芯事件鬧得沸沸揚揚。如今華為自主研發晶元讓國人為之自豪，但是又有一個問題難道不可以自己製造晶元嗎？我們要知道製造晶元需要使用光刻機。但是縱觀全球晶元公司，有這個技術和設備的只有三星公司了。它既可以自主研發又可以製造晶元，基本上壟斷了行業晶元。但是反觀中國目前的光刻機仍不能達到製作高端晶元的要求，技術還很落後。

要製作出一台精良的光刻機，要做很多的攻堅，不僅要達到美國光源、德國鏡頭的高層面，還有許許多多的精密儀器。中國光刻機任重道遠！在這些精密儀器的背後，同樣也需要更多的人才、研究技術、時間投入、技術的積累同樣也需要大量的資金。相信中國也會克服這一困難，從此不再受他國制約。

6. 中國目前光刻機處於怎樣的水平為什麼短時間內造不出來

中國光刻機生產落後，關鍵還是能夠買進更先進的機器。如果西方國家實施制裁，禁止中國從西方進口，用不了幾年，光刻機的生產就是趕不上他們，也不會與他們有大差距。成立中國企業基金會，中國銀行聯盟基金會，給中國的各類裝備研發生產企業以年百億級別的資金支持，派出國家院士團隊全力支持研發，不愁一年兩年搞不出來。

光刻機是一台機器，你可以不斷分解這台機器，一直到各獨立原件，尤其那些關鍵是幾個部件，你會發現，做這個部件，要列出一大堆工藝設備技術，如同一棵樹散出無數枝條和樹葉，葉脈你就不要糾結了，就完善這些樹枝和樹葉就能把一萬人累死！

有人說的好：“錢不是萬能的，但沒有錢是萬萬不能的”，但是還有人說的一句話更有道理：“有錢能解決的問題都不是問題”，而晶元等領域恰恰是光有錢也不一定能解決問題的，否則為什麼我們要花那麼多錢錢去買，為什麼華為寧可被罰了那麼多錢也要美國的晶元，不會把這些錢投入自己造啊，關鍵是有錢也造不出啊！有些領域一不能逆向模仿，二不能彎道超車，三不是喊“口號”喊出來的，抓緊追趕才是正道。

中國只要不計成本，搞出高端光刻機是早晚的事，如果高端晶元也搞出來，自己的光刻機給自己的晶元廠商用，不用再進囗，國外晶元廠商賣不動晶元，自然不再買光刻機，逼迫荷蘭光刻機廠商大虧損，甚至垮台，中國在世界就是真正的巨人了。賺錢就是自然的了。這事全世界只有中國能做。

7. 光刻機的發展歷史

光刻技術的發展
1947年,貝爾實驗室發明第一隻點接觸晶體管。從此光刻技術開始了發展。
1959年,世界上第一架晶體管計算機誕生,提出光刻工藝,仙童半導體研製世界第一個適用單結構硅晶片。
1960年代,仙童提出CMs|C製造工藝,第一台C計算機BM360,並且建立了世界上第一台2英寸集成電路生產線,美國GCA公司開發出光學圖形發生器和分布重復精縮機。
1970年代,GCA開發出第一台分布重復投影曝光機,集成電路圖形線寬從15μm縮小到0.5um節點。
1980年代,美國SVGL公司開發出第一代步進掃描投影曝光機,集成電路圖形線寬從0.5m縮小到035m節點。
1990年代,n1995年,Cano著手300mm晶圓曝光機,推出EX3L和5步機;ASMLFPA2500,193nm波長步進掃描曝光機、光學光刻解析度到達70nm的「極限。
2000年以來,在光學光刻技術努力突破解析度「極限」的同時,NGL正在研究,包括極紫外線光刻技術,電子束光刻技術,X射線光刻技術,納米壓印技術等。

8. 國產光刻機今年要下線了，它是如何發展起來了

社會在不斷的進步，人們對於一些事情的認識也不清晰，對於這些事情，我們需要不斷的鑽研，這是需要一步步的研究才能完成的，我們對於一些領域是完全陌生的，就算是經過很多年，這件事都是無法改變的，但是我相信，只要我們不斷努力，在最後所有問題都是會被解決，這一點是不需要懷疑的，我國有很多的人，他們有著超人的毅力，對於困難，他們不會退縮，他們只是選擇迎難而上，這是值得我們每一個人敬佩的，我們需要學習這種精神。

9. 中國的光刻機是什麼水平與世界先進還有多大差距如何追趕

摘要 你好，中國光刻機距離世界先進水平，還有較大的差距。