㈠ 拜登限制出口逼急荷蘭，國產光刻機好消息頻出，自主發展五年成型
在人類邁入高 科技 時代之後，晶元這個小小的元件地位水漲船高，小到一部手機，大到一個機器人，都需要晶元的支持才能正常工作，晶元水平的強弱直接影響著 科技 產業的興衰。
這種元件雖然體積小，但內部結構復雜多變，其製作工藝、晶元設計都蘊含著極高的 科技 水準，沒有系統的學習過這一領域的專業知識，想要涉足幾乎不可能。除此之外想要製造出晶元，還有一個繞不過的難題，那就是光刻機。新來的朋友們記得點個關注，方便瀏覽往期視頻和文章，又可接收最新消息。
一、拜登限制荷蘭向中國出口光刻機
光刻機是製造晶元的核心裝備，它採用的技術類似於照片沖印，能夠把模板上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。雖然看起來光刻機的技術並不復雜，但因為性質特殊，對精度要求極高，其中所蘊含的 科技 水平之高，在世界范圍內也僅有數家公司能夠製造。
光刻機分為兩種，分別是DUV光刻機和EUV光刻機。其中DUV代表著深紫外線，而EUV代表著極深紫外線，雖然僅有一字之差，但EUV光刻機在精度方面幾乎碾壓DUV光刻機.而光刻機精度越高，能夠生產出的晶元納米尺寸也就更小，功能也就更加強大。目前來說，世界上小於5納米的晶元晶圓，只能通過EUV光刻機生產。
一台EUV光刻機，單單是組成零件便達到10萬多顆，其中極紫外線光源生產自美國，機械部分來源於工作一絲不苟的德國，核心軸承產自瑞典，所用到的光學設備主要由日本提供，生產所用的閥門來自法國，而核心技術則掌握在荷蘭的阿麥斯公司手中。
從中不難看出一台光刻機，集結了眾多國家的最頂尖 科技 .而它在價格方面也十分昂貴，通常在3,000萬美元至5億美元不等。並且，目前來說，世界上只有荷蘭的阿麥斯公司可以製造EUV光刻機。
不過雖然光刻機具有極高的技術含量，但其本質也僅僅是一件商品，並不能同時擁有價值與使用價值，作為商品,被用來交易便是他的宿命。早在2018年4月，我國的中芯國際便向該公司下單了一台EUV光刻機，這台光刻機最終的成交價格已經達到1.2億美元。但巧合的是，就在阿麥斯公司已經將這台光刻機組裝完畢，馬上就可以交貨的關鍵時期，工廠內卻突發火災，至今原因不明。
不過在2021年7月18日，美國總統拜登對外宣稱出於美國的國家安全考慮，要求荷蘭限制向中國出售光刻機。拋開其他方面不談，單單限制商品的流通這一點，便不符合人類 社會 發展的規律，屬於倒行逆施的行為。但是，在美國下達禁令之後，荷蘭迫於國際壓力，不得已之下，扣留了對中國的出口許可。
這樣的舉動，無疑會讓中國與荷蘭的外交關系陷入較為緊張的局面，但是，透過現象看本質，此件事情主要還是因為這段時間中國在多領域，尤其是武器領域發展迅速，使得美國擁有了危機感，不得已之下，他們只能通過極端手段遏制打壓中國 科技 產業，而荷蘭只是受了脅迫而已，這件事情不會對中國與荷蘭的關系產生較大影響。
早在特朗普當政時期，為了阻礙中國在高 科技 領域的進一步發展，便開始限制對中國的技術出口，我們所熟知的華為公司正是遇到了核心技術卡脖子的問題，才導致如今陷入無芯可用的尷尬局面。實際上以華為內部的研發團隊，完全能夠滿足晶元的設計要求，但是設計出晶元之後，華為公司卻沒有與之相匹配的能力將其製造出來，這一問題歸根結底，還是光刻機鬧得。
二、好消息頻出，國產光刻機核心問題有望解決
在拜登政府上台之後，一改特朗普執政時期的作風，在伊核問題、退群問題上，都和特朗普的執政方針完全不同，但令人沒有想到的是，對於中國 科技 方面，拜登卻選擇了支持特朗普的政策，持續對我國相關企業進行打壓。
在拜登入主白宮還不到一個月的時候，他便派出了國家安全顧問傑克沙利文前往荷蘭進行交涉，其目的就是為了限制阿麥斯和中國的合作。除了正常的外交談判之外，美國方面甚至對荷蘭進行威脅，聲稱如果美國不給阿邁斯提供製造光刻機的零件，整個阿麥斯公司的設備就無法運轉。除此之外，拜登甚至還想要控制比利時微電子研究中心，以此來阻止中國的發展，好在他的目的沒有達成，不然實在的局面必定會更加緊張。
但是對於美國的所作所為，阿麥斯的首席執行官溫寧克卻做出預言，他表示出口管制固然在短期內會限制中國的發展，但從長遠角度出發必定會起到反作用。
自強不息，一直是中華民族最寶貴的特質之一。在建國初期，我們一窮二白，面對西方的技術封鎖，中華民族在 探索 之中砥礪前行，在原子彈、核潛艇、衛星等方面，中國比西方世界慢了不知道多少年，但我們卻用自己的努力與汗水將這個是差距一點一點的縮短，甚至完成反超，這種力量與信念足以令世界人民震驚！如今我國在光刻機領域遭受的困境與當年如出一轍，先輩們能做到的事，今天的中國人同樣能夠做到。
從經濟學角度出發，市場決定生產，中國擁有14億人口，毫無疑問中國是全球最大的晶元應用市場，中國每年進口晶元的花費高達數千億元，晶元行業的蓬勃發展，也代表著中國的光刻機市場，同樣擁有廣大的前景。雖說阿斯麥在光刻機領域的地位堪比壟斷，失去了中國市場對阿麥斯來說也是一個巨大的打擊。
並且嚴格意義上來說，中國早就已經突破了光刻機技術，只是現階段我國研製的光刻機技術僅僅只達到了中高端水平，面對DUV及以下級別的光刻機我國具有一定的生產能力，但是在高精度光刻機領域，我國依舊是一片空白。不過，如今我國的最高學府，清華大學正在深入研究EUV光源問題，研究出的SSMB光源的潛在應用之一，便是作為為EUV光刻機的光源，一旦這一展望能夠實現，便意味著我國有望解決自主研發光刻機之中最核心的光源問題。
除了在核心問題上取得突破外，這段時間國產光刻機製造領域更是好消息頻出。前段時間上海微電子裝備有限公司對外宣稱，預計在2021年底或2022年初實現28納米精度的光刻機的量產。在國際方面，中國也著眼於國際光刻機製造領域，在力爭跟緊國際研究的同時，研究面向後摩爾時代的集成電路的顛覆性技術，簡單的來說就是在現有技術的基礎上著眼於未來，走出一條屬於中國人自己的道路，力爭彎道超車。
三、五年內國產光刻機產業有望發展成型
早在美國對中國實行技術封鎖之時，便有專家進行預測，中國在5年內便能實現光刻機核心技術國產化，這預測如今看來，雖然有些難度，但也並非完全不可能實現。總的來看中國擁有全球最大的市場，在核心技術方面也不斷取得突破，在5年內實現最頂端的光刻機技術完全國產化可能並不現實，但如果只是中高端機型實現大規模量產，這一點並不難做到。
我國在《中國製造2025》中明確要求，在2025年之前，我國必須完成20~14納米工藝設備國產化率達到30%的目標，並實現沉浸式光刻機國產化。從這份計劃中不難看出，中國已經加大了在光刻機領域的研發。而中國人一向言出必行，只要下達計劃，完成只是時間問題。
目前來說，在工業領域用處最大的光刻機主要體現在10~50納米，其中40~50納米級別的晶元，在市場中占據的份額更是十分驚人，雖然在精密元件之中，需要用到10納米以下精度的光刻機，但畢竟是少數。以目前的需求來看，我國在5年內滿足國產光刻機的大部分需求並不成問題。
但只有徹底攻克核心技術，才能實現我國在手機晶元等領域不在受制於人的局面，這一局面一旦形成便代表著我國徹底打破了用芯難的魔咒，屆時中國的核心 科技 產業必將能夠更上一層樓。