為什麼中國制不出光刻機

A. 為什麼光刻機造不出來，光碟刻錄機也是進口的呢

光刻機的製造，是集合了很多門類科學頂尖技術的產物，包括光學、精密儀器、數學、機械自動化、流體力學等等。
1、技術難點一：光源。
如果把光想像成一把刻刀，那它的光孫滾悉波長越短，這把刀就會越鋒利。7納米的晶元意味著，在每個元器件之間，只允許有幾納米的間距，相當於頭發絲的萬分之一粗細。
要製造這樣的光源，必須使用一種特殊的極紫外光。這種光源，很難製造。直到2015年的時候，ASML才研製出一台極紫外光刻機。
目前為止，也只有則乎阿斯麥一家公司，能夠生產極紫外光刻機。
2、技術難點二：光學鏡頭。
主要作用是調整光路和聚焦的。其中，高精密的光學鏡頭是光刻機的關鍵核心部件之一。
3、技術難點三：是曝光台的對准技術。
晶元的曝光不能像照相那樣，一次就能完成，必須要換不同的掩膜，多次進行曝光才行。而掩膜和硅晶圓之間的每次對准，都必須控制在納米級別才行。
當曝光完一個區域後，放備世置硅晶圓的曝光台，必須馬上快速移動，因為要接著曝光下一個區域。
而要在快速移動中，實現納米級的對准，其難度是相當大的。
4、實際上，除了光源、鏡頭和曝光台對准這三個關鍵技術之外，還有很多的保障性技術難題。
比如說，超潔凈的廠房、防止抖動的裝置等等。
光刻機是「半導體工業皇冠上的明珠」，想要製造這樣一台先進的光刻機，其實就是在挑戰整個人類工業技術的極限。而且實際情況要復雜的多。

B. 1965年我國就有了光刻機，為何現在的發展卻大幅度落後

中國的光刻機之所以會走向落後，是因為經濟發展因素、海外企業競爭力過強以及歐美國家對中國進行了技術封鎖。

由於華為遭美國封殺之後，華為的晶元供應也出現了很多的問題，由於晶元的製造離不開光刻機，所以光刻機就成為了網友非常關注的東西，只不過令大家沒有想到的是，中國曾在光刻機領域達到過世界先進水平。

一、經濟發展的原因，導致中國在光刻機領域處於落後地位。

雖然中國當時在光刻機領域擁有著不錯的技術水平，但是大部分企業在光刻機領域都無法賺得收入和利潤，這導致很多企業逐漸放棄了光刻機的生產和研發，正伏虧是由於很多企業不看好光刻機的生產，所以才導致中國在光刻機領域出現了大幅度落後的情況。

C. 光刻機到底有多難製造可能比原子彈還稀有，全世界僅兩國掌握

我們都知道，自從華為在5G技術上佔得了先機，美國就一直採取各種措施限制和針對華為，甚至直接採取干擾措施。此前，華為消費者業務CE0餘承東表示，因為美國對華為實施的晶元制裁已經開始生效，作為華為晶元供應商的台積電，在此後將會終止與華為的合作，華為手機使用的高端晶元在失去供應商以後，過不了多久，華為手機就會出現無晶元可用的情況。

此消息一出，大家一方面因為美國的制裁感到憤怒，另一方面，則是非常驚訝，同時還感到了無法理解，現在的 科技 水平已經這么高了，華為更是國內的優秀企業，為什麼晶元還得靠別人，而自己卻沒有能力造呢？很遺憾，但是事實就是如此，高端晶元，不但華為現在還造不出來，國內也很少有企業的製造水平能達到這種地步，最關鍵的原因就是，我國在半導體領域的技術還不夠高，還沒有達到那個高度，所以沒有條件建造出精度更高光刻機，而如果沒有光刻機的話，就完全沒有辦法造出符合條件的高端晶元。

其實理由也很簡單，就一條，因為關鍵技術太難橋陪世掌握造不出來，之前有過這么一句話，是評價光刻機的，他說，以我國目前的技術水平來說，我們造的出各種新式導彈，但是卻造不出光刻機，所以說，光刻機的稀有程度比原子彈都高。這樣的評價可以說是相當中肯的，現在世界上，有9個國家已經可以自行建造原子彈了，而且原子彈的數量還不少，可是完全掌握了高精度光刻機技術的，現在也就只有兩個國家，日本和荷蘭，差距非常明顯。

所以，光刻機的技術難點到底在哪裡呢？其中一個關鍵原因是，要想完成光刻機製造，這個國家的科學水平一定要非常高，而且底蘊深厚，積累足，不僅如此，想完成光刻亂州機的建造，光靠自己是不可能的，其中要用到的很多東西，都必須從國外買。還有一個原因，研發時耗費的資金會非常多，可以說是天文數字。對於中國而言，錢都不是阻礙我們發展光刻機的原因，可是因為中國發展時間不足，所以對該行業不是很了解，熟悉程度也低，別說建造了，研製的時候究竟該從哪裡開始，我們剛開始都是一頭霧水。想要成功破解光刻機難度是非常大的，在中國看來，難度更是上升了一個檔次，讓我們在這個方面寸步難行的原因，除開客觀條件的影響，還有一道壁壘橫在我們面前，那就是西方國家依然還在對中國實行技術封鎖，我們當初本來想從國外先引進光刻機，然後再自己進行研製的，所以就和荷蘭商議了相關的細節，雙方都已經決定交易了，可是美國橫插一腳，百般阻攔，荷蘭也沒有勇氣得罪美國，因為美國的再三施壓，和中國的光刻機貿易計劃只能一拖再拖。

這件事情發生於數十年以前，到了今天，在努力這么久以後，我國對於光刻機的研究又進行到了什麼程度呢？根據官方給出的數據我們可以看出，現在來說，數據還不是特別理想，因為我們擁有的光刻機，它的製程是90納米，而依然處於研製階段的光刻機，製程縮短到了28納米的樣子，看樣子的確是進步顆很多，但是需要注意的是，荷蘭的光刻機製程可以達到5納米至7納米，我們可以非常直觀的感受到，和真正意義上的高精度光刻機相比，我國在這方面還有很長的路要走，所以，華為現在完全沒有辦法自行製造華為手機需要的高端晶元，用華為的麒麟1020晶元為例，它的製程為最小的5納米，國內的技術水平完全趕不上。

其實關於這件事情，我們只需要牢記一點就行，那就是，光刻機具有非常關鍵的意義，如果能擁有它，就代表著敏肢我國的科學技術水平又有了新突破，美國的晶元制裁帶來的嚴重危機也在警醒著所有中國人，要是再關鍵的高新領域發展不起來的話，就相當於把命脈交到了別人手上，別人隨時都可以在這方面拿捏你，這樣的情況，會讓中國在未來陷入困境。如果想徹底不再受制於人，中國必須在這些高新領域繼續發展，繼續保持全速前進的狀態，加大馬力，爭取在短時間內提高自己的水平

D. 為什麼我們造不出光刻機去買一台別人的，然後拆開，看看是什麼零件造的，仿製一台不就行了嗎

光刻機對於晶元生產的重要性不言而喻，為攻克晶元卡脖難題，國內掀起一股自研光刻機的熱潮。殊不知，光刻機，尤其是EUV光刻機的製造難度，已經超乎絕大部分人想像。


公開圖紙也不怕山寨

在全球光刻機市場，ASML無疑是霸主般的存在。針對奇特企業仿製ASML光刻機的問題，ASML總裁Wennink曾公開回應，高端的EUV光刻機永遠不可能被模仿。

此前ASML甚至還放出豪言，稱即使把圖紙公開，也不怕EUV光刻機被山寨！這不禁令人疑問，EUV光刻機到底有多難製造？ASML又何來的自信？


要知道，生產EUV光刻機需要依賴的並不是單一的技術，而是需要各學科和應用工程的交叉。作為半導體領域最為復雜的核心設備之一，EUV光刻機有超過10萬個零件，縱使是行業霸主ASML，也需要數千家公司提供幫助。

因此，EUV光刻機的自主研發，絕不是國內半導體領域在短時間內可以攻克的難題。而ASML多年積累的系統集成優勢，也是其可以不畏懼公開圖紙的主要原因。


中國院士實話實說

晶元國產化大潮之下，關乎攻克晶元生產核心設知鎮猜備呼聲越來越高，光刻機自然也位列其中。在國內，關於是否要投入大量資源研發EUV光刻機的討論一直都在。

在2021數博會上，吳漢明院士專門針對此事發聲，表示僅靠一個國家就生產EUV光刻機的想法並不現實，這無疑給國內不少自研EUV光刻機的支持者「潑了冷水」。


不過筆者卻認為，吳漢明院士所說屬於事實。EUV光刻機的每一個零部件，都已經達到了行業內的頂尖水平，比如美企提供的光源、德企提供的光學系統等，僅湊齊這些業內頂級資源，便已是難上加難。

且EUV光刻機的研發需要較長的周期，國內的技術水平、人才儲備等本就與國際巨頭有著較大差距，冒然進行EUV光刻機的研發，也只能撞個頭破血流。


因此，腳踏實地、循序漸進才是國產光刻機實現進步的主要途徑。目前，上海微電子已經在著手研發28nm光刻機。

雖然28nm光刻機與ASML最新設計的1nm光刻機有較大差距，但在國內企業不斷擴產成熟工藝製程的今天，中低端光刻機研發搭型的穩打穩扎，或許更具意義。

隨著上海微電子等國內企業的持續努力，國產光刻機的性能將不斷提升，旅正在高端領域取得突破也不是不可能。

E. 中國自主光刻機為何如此難產

光刻機，晶元工藝裡面最關鍵的機器設備之一，當今世界上最頂級的光刻機為燃跡荷蘭阿麥斯光刻機，佔全球市場份額超過80％以上，幾乎可以說是壟斷了全球市場，屬於無可匹敵的地位。如今五納米技術已經量產，三納米技術正在測試，技術領先全球超過兩代，之所以那麼厲害，主要是因為他們集結了全世界十幾個發達國家的最尖端技術的結晶，並不是單獨一個公司一個國家的技術成果，而是十幾個發達國家合作的成果。

基礎科學本身就是任何科技的地基，基礎人才培養又是科技是否能突破的關鍵，光刻機也是一樣，基礎科學是最關鍵的，我們並不是造不出來那種頂級的光刻機，關鍵在於穩定性以及壽命跟故障率，還有就是使用的流暢度是否能做好，這個才是根本問題，基礎科學基礎人才的培養是關鍵，當然也不是一朝一夕的事情，需要各方面去積累，這個需要時間。

F. 我們國家有大批科研人員，為什麼不能製造出光刻機

光刻機的研發是一個技術問題，高精宴啟度的光刻機難度非常大。由於市場的原因，光刻機寡頭壟斷了除第一種產品外的其他產品，其他產品不賺錢，這意味著第一種和第二種之間的差異將繼續擴大，除了第一種產品外，其他差異可能長期存在。

G. 我國可以製造出2nm的晶元，為什麼製造不出光刻機

隨著科學在各個方面的不斷進步，人們使用電子產品的體積也就在不斷的縮小，我們使用電腦晶元這方面，在目前使用最虛裂裂好的也就是7nm的製造工業，可是在前不久中科院就發表源差文章說可以製造出2nm的晶元。就會有人問：我國可以製造出2nm的晶元，但是為什麼就是製造不出光刻機？其實這是我國科技水平還沒達到發達階段。

而對於光刻機，首先我們國家對於光刻機的技術還是很落後的，就算是國內技術含量最好惡毒光刻機也太能達到22nm，而與我們所研究出來的2nm晶元所要的光刻機根本不在一個檔次了。而目前我們想要研製出光刻機，並且我們國家2018年在荷蘭定製的兩台7nm光刻機至今一點消息都沒有，更別說我想要研製出這樣的光刻機了