⑴ 中国目前光刻机处于怎样的水平为什么短时间内造不出来
中国光刻机生产落后,关键还是能够买进更先进的机器。如果西方国家实施制裁,禁止中国从西方进口,用不了几年,光刻机的生产就是赶不上他们,也不会与他们有大差距。成立中国企业基金会,中国银行联盟基金会,给中国的各类装备研发生产企业以年百亿级别的资金支持,派出国家院士团队全力支持研发,不愁一年两年搞不出来。
光刻机是一台机器,你可以不断分解这台机器,一直到各独立原件,尤其那些关键是几个部件,你会发现,做这个部件,要列出一大堆工艺设备技术,如同一棵树散出无数枝条和树叶,叶脉你就不要纠结了,就完善这些树枝和树叶就能把一万人累死!
有人说的好:“钱不是万能的,但没有钱是万万不能的”,但是还有人说的一句话更有道理:“有钱能解决的问题都不是问题”,而芯片等领域恰恰是光有钱也不一定能解决问题的,否则为什么我们要花那么多钱钱去买,为什么华为宁可被罚了那么多钱也要美国的芯片,不会把这些钱投入自己造啊,关键是有钱也造不出啊!有些领域一不能逆向模仿,二不能弯道超车,三不是喊“口号”喊出来的,抓紧追赶才是正道。
中国只要不计成本,搞出高端光刻机是早晚的事,如果高端芯片也搞出来,自己的光刻机给自己的芯片厂商用,不用再进囗,国外芯片厂商卖不动芯片,自然不再买光刻机,逼迫荷兰光刻机厂商大亏损,甚至垮台,中国在世界就是真正的巨人了。赚钱就是自然的了。这事全世界只有中国能做。
⑵ 中国何时能造出来自己的光刻机
现在世界上顶级的设备毋庸置疑就是ASML的5纳米光刻机。这台机器如果一一拆分开来的话可以装进大约40个集装箱之中,超过100000万个零件的总数量在机器领域绝对算得上是庞然大物。而且这10万个零件之中,精密仪器、顶级光源、超稳定轴承和计量器一个都不少。它们分别来自全球各个国家,包括日本、德国和美国。而其中,美国为光刻机提供的基础零件其实也比较多,正因如此他们才能如此硬气的要求芯片代加工厂商禁止向华为输出产品。
⑶ 为什么光刻机不需要大学和研究机构操心中国突破需要几年
近年来,随着我国科技的高速发展,美国为了保住自己第一科技大国的地位,便开始对我国高新技术企业进行打压,而且手段不断在升级。而在美国所有的制裁手段中,芯片断供成为了他打压我国企业最常用、最有效的手段。
其实,我国不是没有光刻机,只不过是没有做成高端而已。但是,随着国内光刻机市场的扩大,美国不断对我们进行封锁,国内企业已经开始在光刻机方面不断投入大量资金,进行技术的研发和更新,尤其是国内已经发现了可用于EUV光刻机的光源,笔者坚信,两三年之后,国产光刻机必定能取得重大突破。
⑷ 中国什么时侯能制造出达到国外水平的光刻机
以现在的技术来看我国确实达不到国外的水平,但是我们中国有决心,有耐心,我相信用不着太长的时间就会达到国外的水平。
⑸ 中国有可能研发出成熟的光刻机吗如果能,要多久
中国目前已经有了成熟的光刻机产品,只是说在技术水平上和光刻机的领头羊ASML差距比较大而已。
目前国内的研发环境并不算好毫无疑问光刻机算的上目前科技界最顶尖的技术之一,这种技术要完成赶超需要不断的和其他国家交流合作,从他们的产品中吸取经验和教训,进而才能在有限的时间内完成赶超。但是现在是什么情况呢?国外的企业在光刻机领域纷纷拒绝合作,我们只能选择闭门造车。只要美国不放松对国内光刻机企业的围追堵截,那么我们只能投入巨额的资金和技术慢慢追赶。不过ASML公司的产品已经和国内产品差距太大,短时间内没有任何追赶上的可能性。如果我们想要绕过现有的光刻机技术走出一条自研道路,那么需要的时间可能更久。从目前的形势上看,我们的光刻机如果想追上现在国际一流水准的话最起码都要十年以上,想要完成赶超更是天方夜谈。不过现在压力大也是好事,在强压的下的中国企业肯定会更有拼劲,说不定未来会创造奇迹呢?
⑹ 如果中国举全国力量研发芯片和研制光刻机需要多长时间
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首先、可以肯定的是目前我国在芯片设计上并与全球顶尖水平差距并不是很大,差距主要在制造环节。
目前我国有很多芯片设计企业,有部分企业芯片设计能力已处于世界先进的地位,比如华为海思所设计的手机芯片已经达到世界第一梯队的位置。
目前真正制约我国芯片发展的主要是在制造环节,因为把芯片设计出来之后要转化为实实在在的芯片,需要通过晶圆厂家把它制造出来。
但是目前我国最先进的晶圆厂家是中芯国际,它能够制造的芯片也只不过是14纳米,这个跟国际目前已经量产的5纳米仍然有很大的差距。
而制约我国芯片发展的有一个核心零部件就是光刻机。目前由上海微电子自主研发的28纳米光刻机已经取得了技术上的突破,预计2021年将正式投产,但这跟ASML仍然有很大的差距。
所以综合各种因素之后,我认为至少在未来10年之内,我国在芯片制造和高端光刻机上跟国际顶尖水平仍然会有一定的差距,这种差距即便举国之力去研发,短期之内也是不可能完成缩小的。
⑺ 蒋尚义需要多长时间才能研制出光刻机
我认为就目前的科技水平,蒋尚义还是需要很久才会研制出光刻机的,至少需要五年的时间才可以成功。因为需要解决的东西还需要很多。
⑻ 我国的光刻机5纳米生产技术要多久才能突破
月初一条“中科院5nm激光光刻技术突破”的新闻火了,在很多无良自媒体的口中这则新闻完全变了味,给人的感觉像是中国不久将会拥有自己的5nm光刻机,其实真实情况完全不是一回事。下面我们就来谈谈这则新闻真实的内容到底是什么,以及中国光刻机5nm生产技术还要多久才能取得突破。
中国和荷兰ASML的差距最起码也在十年以上现在国内最好的光刻机生产企业应该是上海微电子,目前生产的最好光刻机也只是90nm的制程。尽管有传言说上海微电子明年将会推出28nm的全新光刻机,但是和ASML的EUV光刻机精度依旧相差甚远。中国想要生产5nm的光刻机有一个最大的难点,就是自主研发。这不光意味着我们需要跨越从28nm到5nm这个巨大的障碍,并且在突破的过程中最好不要使用其他国家的专利,只能发展出一条属于自己的光刻机道路。需要达成这么多的条件,研发的难度可想而知。总的来说短时间内我国的光刻机技术取得重大突破的概率为0,还是要被人牵着鼻子走。落后就要被挨打卡脖子在任何时候都是真理,只希望我们国家的科研人员能够迎头赶上,尽快取得突破吧。
⑼ 华为多久能造出光刻机
最近有传言华为正在招聘“光刻工艺工程师”,因此不少网友纷纷猜测:华为这是打算自己做光刻机吗?甚至还有人说华为能够在2年内搞定5nm的光刻机,这就有些太夸张了,事实也并非如此。由于众所周知的原因,华为在今年很“难过”。虽然华为通过自研拿出了极为先进的5G芯片麒麟990,但是由于不具备芯片制造能力,麒麟芯片只能交由台积电进行代工。
但是由于台积电受到了巨大的外界压力,终于在近期声明会在9月14日起停止为华为代工芯片。事实上台积电从今年5月份开始就不再接收华为下的新订单了,截至目前台积电已经为华为生产了800万块最新的麒麟芯片。
所以我认为,华为接下来自己制造光刻机的可能性不高,因为这个难度太大了。但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作,比如与中芯国际、上海微电子合作,派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关。相信在国内企业的共同努力下,未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的。
而到了14nm这个级别,至少用在手机和通信设备上是没有问题的,可以保证华为的主营业务存续,剩下的则仍然需要慢慢追赶。至少光刻机技术最多也就到1nm,这就像是龟兔赛跑,虽然对手已经跑出很远了,但终点就在那里,只要肯投入研发力量,总有一天可以抵达的。